Fraunhofer ENAS amplia la collaborazione con memsstar

Manutenzione della macchina di incisione plasma da 200 mm »Applied Materials Centura 5200«, completamente revisionata e ampliata da memsstar. © Fraunhofer ENAS / Cornelia Schubert / Manutenzione della «Applied Materials Centura 5200» macchina di incisione plasma da 200 mm, completamente revisionata e potenziata da memsstar. © Fraunhofer ENAS / Cornelia Schubert

Lavori in corso sulla Centura 5200. © Fraunhofer ENAS / Cornelia Schubert / Work in progress at the Centura 5200. © Fraunhofer ENAS / Cornelia Schubert

Fraunhofer ENAS e memsstar Limited instaurano una partnership. Per garantire la qualità dei processi di sputtering reattivo nelle produzioni MEMS e aumentare il throughput, Fraunhofer ENAS lavora ora con un sistema di sputtering al plasma completamente rinnovato «Applied Materials Centura 5200» da 200 mm.

L'Istituto Fraunhofer per i Nanosistemi Elettronici ENAS è l'esperto e partner di sviluppo nel campo dei sistemi intelligenti e della loro integrazione per diverse applicazioni. I sistemi intelligenti non contengono solo componenti elettronici, ma anche micro- e nanosensori, nonché componenti attuatori con interfacce per la comunicazione e un'alimentazione energetica autonoma. Come affidabile partner di innovazione, Fraunhofer ENAS sviluppa sensori ad alte prestazioni, nuovi sistemi di sensori e attuatori basati su strutture nanometriche integrate e tecnologie standard, componenti Beyond-CMOS, tecnologie di integrazione innovative e approcci di affidabilità avanzati.

Per la produzione di diversi elementi MEMS utilizziamo attrezzature standard, come quelle impiegate nell'elettronica micro e nella tecnologia dei microsistemi. Per garantire un'alta qualità dei nostri elementi MEMS e nel rispetto della nostra certificazione DIN EN ISO 9001, sono stati stabiliti requisiti ampliati per i processi e le apparecchiature, portando alla sostituzione di apparecchiature obsolete.

Un passo tecnologico importante nella produzione MEMS è l'erosione delle diverse strutture. Nell'ambito di una gara d'appalto, Fraunhofer ENAS ha incaricato memsstar come fornitore per la consegna di un sistema di sputtering al plasma «Applied Materials Centura 5200» da 200 mm completamente revisionato, con camere per:

– Multi-Purpose ICP-RIE (Inductive Coupled Plasma - Reactive Ion Etching) tramite setup DPS (Decoupled Plasma Source)
– Advanced Strip and Passivation (ASP+) in combinazione con trattamento superficiale
– RIE magneticamente rinforzato (ME-RIE) speciale solo per dielettrici
– Etching ME-RIE multiuso

memsstar è stata scelta perché l'azienda offre capacità uniche di espansione degli strumenti. Queste includono la protezione attiva del retro della wafer MEMS, la manipolazione e l'allineamento del wafer chiari e trasparenti, nonché il riscaldamento in alluminio resistente per la camera ASP(+), per una lavorazione sostenibile (risparmio energetico) e una migliore performance della camera.

Insieme agli upgrade per la protezione dall'invecchiamento e alla possibilità di espandere la camera originale, l'integrazione di un sistema di preparazione strumenti di alta qualità, il servizio in loco e il supporto post-vendita sono stati anche fattori decisivi nel processo di selezione.

Nel quadro del modello di supporto scelto, memsstar copre anche il servizio e il supporto per gli altri strumenti Applied Materials installati.