Fraunhofer ENAS amplía la colaboración con memsstar

Mantenimiento de la máquina de grabado por plasma de 200 mm »Applied Materials Centura 5200«, que fue completamente renovada y ampliada por memsstar. © Fraunhofer ENAS / Cornelia Schubert / Mantenimiento de la «Applied Materials Centura 5200», herramienta de grabado por plasma de 200 mm, completamente remanufacturada y ampliada por memsstar. © Fraunhofer ENAS / Cornelia Schubert

Trabajos en curso en la Centura 5200. © Fraunhofer ENAS / Cornelia Schubert / Trabajo en progreso en la Centura 5200. © Fraunhofer ENAS / Cornelia Schubert

Fraunhofer ENAS y memsstar Limited establecen una asociación. Para garantizar la calidad de los procesos de grabado por iones reactivos en la fabricación de MEMS y aumentar el rendimiento, Fraunhofer ENAS ahora trabaja con una máquina de grabado por plasma "Applied Materials Centura 5200" completamente renovada de 200 mm.

El Instituto Fraunhofer para Sistemas Nanos electrónicos ENAS es el experto y socio de desarrollo en el campo de los Sistemas Inteligentes y su integración para diversas aplicaciones. Los Sistemas Inteligentes no solo contienen componentes electrónicos, sino también micro y nanosensores, así como componentes de actuadores con interfaces para la comunicación y una fuente de energía autónoma. Como socio de innovación confiable, Fraunhofer ENAS desarrolla sensores de alto rendimiento, nuevos sistemas de sensores y actuadores basados en estructuras nanointegradas y tecnologías estándar, componentes Beyond-CMOS, tecnologías de integración innovadoras y enfoques mejorados de fiabilidad.

Para la fabricación de diversos componentes MEMS, utilizamos equipos estándar, como los empleados en microelectrónica y micromecánica. Para garantizar una alta calidad de nuestros componentes MEMS y cumplir con nuestra certificación DIN EN ISO 9001, se establecieron requisitos ampliados para los procesos y equipos, lo que llevó a la sustitución de equipos antiguos.

Un paso tecnológico importante en la fabricación de MEMS es el grabado de las diferentes estructuras. En el marco de una licitación, Fraunhofer ENAS encargó a memsstar como proveedor la entrega de una máquina de grabado por plasma "Applied Materials Centura 5200" de 200 mm completamente renovada, con cámaras para:

– Grabado por plasma inductivamente acoplado (ICP-RIE) multipropósito (Inductively Coupled Plasma - Reactive Ion Etching) mediante configuración DPS (Decoupled Plasma Source)
– Limpieza avanzada y pasivación (ASP+) en combinación con tratamiento de superficies
– Grabado ME-RIE (grabado reactivo magnéticamente reforzado) específico solo para dieléctricos
– Grabado ME-RIE multipropósito

memsstar fue seleccionada porque la empresa ofrece capacidades únicas para la ampliación de herramientas. Esto incluye la protección activa de la parte trasera del wafer MEMS, la manipulación y alineación de wafers transparente/clara, así como la resistencia operativa de la calefacción de aluminio para la cámara ASP(+) para un procesamiento sostenible (ahorro de energía) y un mejor rendimiento de la cámara.

Junto con actualizaciones para la protección contra el envejecimiento y la posibilidad de ampliar la cámara original, la incorporación de un sistema de preparación de herramientas premium, servicio en el sitio y soporte postventa también fueron factores decisivos en el proceso de selección.

Dentro del modelo de soporte elegido, memsstar también cubre el servicio y soporte para las herramientas de Applied Materials ya instaladas.