Nasschemie-alkalmazók világszerte vendégek az AP&S szülővárosában

Oly sok résztvevővel, mint valaha, és talán éppen a helyszín, Donaueschingen, a Fekete-erdő közepén, miatt indult el a nemzetközi szilíciumtechnológiai ágazat egyik fontos eseménye 2019. április 4-én a Donauhallenben.

Az „11. Európai Nedves Felhasználók Találkozója” és a „40. Európai CMP Felhasználók Találkozója” egy évente megrendezett konferenciasorozat, melynek helyszíne változik. A mikrochipgyártási folyamat felületi kezelése áll a középpontban. Itt találkoznak a felhasználói csoportok Kínából, Európából, Japánból, Koreából, Tajvanról és az Egyesült Államokból, hogy szakmai előadásokat hallgassanak meg a nedves kémiai kezelésekről és a vegyi-mechanikus polírozásról (CMP), valamint hogy mélyrehatóan beszélgessenek ezekről a témákról.

A rendezvény hivatalos szervezője a német VDE/VDI Mikroelektronika, Mikro- és Finiszerkezetek Társasága, amely a zwickerconsult és az Erzm-Technologies együttműködésében működik, szervezési támogatást ez alkalommal az AP&S International GmbH nyújtott.

„Az ötlet, hogy idén Donaueschingenbe hozzuk az eseményt, már eleve zseniálisnak tartottuk, és teljes támogatásunkat ígértük a fő szervezőknek. Ez a mi városunk, jól ismerjük, legyen szó helyszín kiválasztásáról, szállások szervezéséről vagy a program vonzóvá tételéről – minden jól működött és élvezetes volt” – mondta Sinja Weißmann, az AP&S értékesítési asszisztense.

„Tudtuk, hogy a Fekete-erdőben van, ezt már korábban is tudtuk” – egészítette ki Tobias Bausch, az AP&S értékesítési és marketing alelnöke –, „de a rendkívül magas regisztrációs szám meghaladta a várakozásainkat, különösen figyelembe véve, hogy korábbi helyszínek többek között Dublin (Írország), Amszterdam (Hollandia), Berlin és Grenoble (Franciaország) voltak. Ezért különösen örültünk, hogy vendégül láthatjuk a résztvevőket. Az agenda összesen 17 izgalmas előadással volt tele. Mi, nedves kémiai folyamatok szakértői, két előadást tartottunk: „Áramlási viselkedés fejlesztése és minősítése eless UBM-folyamatokhoz” és „Hatások a nedves folyamatberendezések részecskeszűrő képességére szállítás előtt”. A konferenciát változatos esti program egészítette ki, amely során a résztvevők helyi látnivalókat tekinthettek meg.”