Leica Microsystems présente un microscope inversé pour des applications industrielles

Avec le système de microscope inversé Leica DMi8, les flux de travail dans les applications industrielles peuvent être considérablement accélérés. Grâce à sa conception modulaire, les utilisateurs peuvent configurer un système de base adapté à leurs besoins microscopiques actuels et le faire évoluer à tout moment en fonction de l'évolution de leurs exigences. / La plateforme de microscope inversé Leica DMi8 pour les applications industrielles peut accélérer le flux de travail. Sa conception modulaire facilite la configuration d'un système répondant aux besoins de l'application et du budget aujourd'hui, tout en permettant une mise à niveau facile à l'avenir.

Le Leica DMi8 peut être équipé d’un objectif macro proposé exclusivement par Leica Microsystems. Par rapport aux objectifs classiques, cela permet d’agrandir le champ de vision jusqu’à quatre fois.

Avec le Leica DMi8, Leica Microsystems lance un microscope inversé modulaire pour les applications industrielles. Les microscopes inversés sont utilisés en métallographie, pour le contrôle qualité dans la fabrication de dispositifs médicaux et de microélectronique, en science des matériaux ainsi que pour diverses tâches d’inspection dans l’industrie automobile et aéronautique. Avec le Leica DMi8, les utilisateurs peuvent configurer un système de base pour leurs applications microscopiques actuelles et le faire évoluer à tout moment lorsque les exigences changent. Le Leica DMi8 accélère les flux de travail, car il est plus rapide de positionner ou de changer les échantillons sur un microscope inversé par rapport à un microscope droit. Les microscopes inversés sont également mieux adaptés pour l’imagerie de grands et lourds échantillons. De plus, avec le logiciel Leica Application Suite (LAS), les utilisateurs expérimentés comme débutants sont guidés étape par étape dans l’analyse.

« Le Leica DMi8 offre à nos clients dans l’industrie la possibilité d’accélérer leurs flux de travail », explique Kay Scheffler, chef de produit chez Leica Microsystems. « Les microscopes inversés sont de plus en plus utilisés pour les applications industrielles, car ils rendent les workflows plus efficaces : les échantillons peuvent être facilement échangés et moins d’étapes sont nécessaires pour la préparation et l’acquisition d’images. De plus, les microscopes inversés offrent l’avantage supplémentaire d’un temps de formation réduit. Grâce à leur modularité et à la qualité optique exceptionnelle du Leica DMi8, les utilisateurs peuvent analyser leurs échantillons avec précision et exactitude tout en ayant toutes les options pour faire évoluer le système. »

Comme l’optique du microscope est située sous la platine, il est possible d’étudier de grands échantillons. La platine conçue pour supporter un poids jusqu’à 30 kg peut accueillir des échantillons de toute hauteur. Même de très grands échantillons peuvent être échangés et photographiés en moins d’étapes qu’un microscope droit pour la même tâche. Pour un échantillon mis au point une fois sur la platine, la mise au point reste constante à travers tous les grossissements – même lors de l’observation d’échantillons similaires.

L’objectif macro proposé exclusivement par Leica Microsystems pour le Leica DMi8 offre un champ de vision de 35 mm. C’est le quadruple du champ de vision d’un objectif standard. Pour une observation encore plus détaillée de la surface de l’échantillon avec un contraste élevé, Leica Microsystems propose une nouvelle technologie d’éclairage Ultra-Contrast-3D.

Comparé aux microscopes droits, la préparation des échantillons avec un microscope inversé nécessite moins de temps. La coupe et l’enrobage ne sont pas nécessaires, et l’échantillon n’a besoin d’être travaillé que d’un seul côté. Les gains de temps qui en résultent permettent d’augmenter le débit d’échantillons et de travailler de manière plus efficace.

Le Leica DMi8 réduit également le risque de collision entre l’objectif du microscope et l’échantillon. L’échantillon est protégé par la position des objectifs sous la platine ainsi que par une limite supérieure du revolver d’objectifs.