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Todas las publicaciones de la rúbrica Electrónica ( obleas, semiconductores, microchips,...)

Vera de 4 pulgadas de GaN sobre obleas de SiC de la tecnología GaN07 del Fraunhofer IAF. Las obleas se fabrican y prueban completamente en la línea de semiconductores interna de la institución, incluyendo diseño, epitaxia, procesamiento de obleas y caracterización. © Fraunhofer IAF / Oblea de 4 pulgadas de GaN sobre SiC procesada por la parte frontal de la tecnología GaN07 del Fraunhofer IAF. Las obleas se fabrican y prueban completamente en la línea de procesos III-V del Fraunhofer IAF, incluyendo el diseño y la fabricación de conjuntos de máscaras de procesamiento, epitaxia, procesamiento de obleas y caracterización. © Fraunhofer IAF
  • Conocimientos, Instituto

EuMW 2025: Fraunhofer IAF presenta transistor GaN de 70 nm para satélites de alto rendimiento

Tecnología de semiconductores para comunicaciones satelitales de banda ancha alcanza una eficiencia récord

Investigadores del Fraunhofer IAF han desarrollado una tecnología de transistores de GaN con una longitud de puerta de 70 nm, que alcanza valores récord en eficiencia bajo condiciones típicas de satélites. Se espera que esta tecnología permita en el futuro antenas activas compactas para transferenci…

Inspección de calidad en el proceso de fabricación de obleas. © Fraunhofer IPMS / Quality inspection in the wafer manufacturing process. © Fraunhofer IPMS
  • Medios de reinstalación (agua, gases, ...)

Agua pura para una producción de semiconductores sostenible

Fraunhofer IPMS, AlixLabs y NSS Water revolucionan la gestión sostenible del agua pura en la fabricación de semiconductores

AlixLabs y NSS Water anuncian una colaboración estratégica para el desarrollo de soluciones sostenibles y rentables para la gestión del agua ultrapura (en alemán, ultra-pure water, UWP) en la producción de chips. Debido a la creciente preocupación por el constante aumento en el consumo de agua de la…

Los expertos de DIVE y del Fraunhofer IPMS en la sala limpia en Dresde. © Fraunhofer IPMS / Expertos de DIVE y Fraunhofer IPMS en la sala limpia del Fraunhofer IPMS en Dresde. © Fraunhofer IPMS Sistemas de imagen de DIVE que permiten un control de obleas sin destrucción. © DIVE imaging systems GmbH / Sistemas de imagen de DIVE para un control de obleas no invasivo. © DIVE imaging systems GmbH
  • Dispositivos

Asociación innovadora para el control de obleas que ahorra recursos

Fraunhofer IPMS y DIVE optimizan procesos de semiconductores con un sistema de medición innovador

El Instituto Fraunhofer para Microsistemas Fotónicos IPMS ha establecido junto con DIVE imaging systems GmbH un paso fundamental hacia una fabricación de semiconductores más eficiente en recursos. Con la exitosa instalación de un dispositivo de medición óptica de DIVE en la sala limpia del Fraunhofe…

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