Nový rok, nová práce? Podívejte se na nabídky! více ...
C-Tec Systec & Solutions GmbH ClearClean Hydroflex



  • Svazek, sdružení, shluk
  • Přeloženo pomocí AI

Stavba slavnostního otevření Centra pro pokročilý CMOS a heterointegraci Sasko

Vizualizace novostavby na severu Drážďan. © heinlewischer Architekten Dresden
Vizualizace novostavby na severu Drážďan. © heinlewischer Architekten Dresden
Čistá místnost Centra pro pokročilý CMOS a heterointegraci Sasko. © Fraunhofer IPMS
Čistá místnost Centra pro pokročilý CMOS a heterointegraci Sasko. © Fraunhofer IPMS
Dr. Manuela Junghähnnel, vedoucí Fraunhofer IZM-ASSID, Dr. Wenke Weinreich, vedoucí oddělení Center Nanoelectronic Technologies, premiér Michael Kretschmer a prof. Harald Schenk, ředitel institutu Fraunhofer IPMS, symbolicky zatloukají poslední hřebíky. © Fraunhofer IPMS
Dr. Manuela Junghähnnel, vedoucí Fraunhofer IZM-ASSID, Dr. Wenke Weinreich, vedoucí oddělení Center Nanoelectronic Technologies, premiér Michael Kretschmer a prof. Harald Schenk, ředitel institutu Fraunhofer IPMS, symbolicky zatloukají poslední hřebíky. © Fraunhofer IPMS
Označení bylo provedeno firmou Karl Köhler. © Fraunhofer IPMS
Označení bylo provedeno firmou Karl Köhler. © Fraunhofer IPMS
Předseda vlády Michael Kretschmer pronesl uvítací slovo. © Fraunhofer IPMS
Předseda vlády Michael Kretschmer pronesl uvítací slovo. © Fraunhofer IPMS

Centrum pokročilých CMOS a heterointegrace Sasko (zkráceně: CEASAX) slaví střešní slavnost svého nového kancelářského objektu. CEASAX je majákem polovodičového výzkumu a zakládá se na spojení kompetencí Fraunhofer IPMS a Fraunhofer IZM-ASSID. Tato pracoviště zde nabízejí kompletní hodnotový řetězec v mikroelektronice na 300mm a tím vytvářejí předpoklady pro high-tech výzkum budoucích technologií v Sasku.

Akce začala srdečným přivítáním ředitele institutů Fraunhofer IPMS, Prof. Dr. Harald Schenk a Prof. Dr. Hubert Lakner. Také vedoucí pobočky Fraunhofer IZM-ASSID, Dr. Manuela Junghähnel, byla přítomna a vidí v posílení společné kompetence Fraunhofer na společně využívané budově velkou příležitost k dalšímu rozvoji technologií waferů o rozměru 300 mm. Lakner zdůrazňuje význam rozšíření pro technologickou lokalitu Sasko: „V CEASAX se spojují síly dvou jediných německých výzkumných center zaměřených na aplikovaný mikroelektronický výzkum, která pracují na základě průmyslového standardu waferů o rozměru 300 mm. V rámci European Chips Acts jsou tyto síly důležitější než kdy jindy. Novostavba nám umožňuje skutečně i symbolicky i v přeneseném smyslu místo pro vynikající mikroelektronický výzkum.“

Předseda vlády Michael Kretschmer zdůraznil: „Společnost Fraunhofer je důležitou součástí saské výzkumné krajiny. Především centrum Nanoelectronic Technologies představuje kreativitu, nové nápady a spolupráci. Je dobře, že zde vzniká společný prostor pro výzkum obou institutů IPMS a IZM-ASSID, které mají v rámci německé výzkumné krajiny jedinečnou kompetenci v oblasti technologií waferů o rozměru 300 mm v průmyslovém standardu. Práce zde odvedená nám pomůže spustit a úspěšně rozvíjet mnoho dalších projektů v našem Silicon Saxony. Tímto dlouhodobě posilujeme saský výzkum, ale i naši ekonomiku jako celek. Právě z těchto důvodů podporuje svobodný stát tento důležitý projekt.“

Ministr vědy Sebastian Gemkow doplnil: „Tato vznikající novostavba a podpora průlomových výzkumných témat, jako je mikroelektronika, ze strany svobodného státu Sasko úzce souvisí, pokud jde o posun vývoje v regionu. Rozvíjet vědeckou excelenci a současně mít pevný záměr přenášet výsledky do praxe, je pro nás klíčovým cílem. K tomu je potřeba prostor a komunikace. Obě tyto věci bude novostavba zde, na místě, zajišťovat.“

Po projevech následovala tradiční řeč na střeše, při níž byl symbolicky oslavován úspěšný pokrok ve výstavbě.

O Centru pokročilých CMOS a heterointegrace Sasko

S dvěma výzkumnými institucemi Fraunhofer IZM-ASSID a Fraunhofer IPMS, oblast Center Nanoelectronic Technologies CNT, jsou v Sasku umístěny dvě jedinečné výzkumné instituce v Německu v oblasti mikroelektroniky. Jsou to dnes jediná německá centra zaměřená na aplikovaný výzkum mikroelektroniky, která pracují na základě průmyslového standardu waferů o rozměru 300 mm.

Spojením kompetencí a založením Centra pokročilých CMOS & heterointegrace Sasko vznikají vynikající perspektivy přilákat a udržet si výrobce polovodičů, systémové uživatele, výrobce materiálů a zařízení po celém světě v rámci Silicon Saxony. Pro průmyslové a výzkumné zakázky je klíčové nejen vynikající personál a know-how, ale také vybavení moderním přístrojovým a zařízení parkem.

Pro budoucí rozvoj nezbytných kompetencí v mikroelektronice a mikrosystémech jsou R&D nabídky Fraunhofer IZM-ASSID a Fraunhofer IPMS zaměřeny na rozvoj a rozšiřování procesních kompetencí v oblasti 300mm, tak aby místní a národní průmysl od malých a středních podniků až po velké společnosti (například GlobalFoundries, Infineon, Bosch) mohl co nejlépe využívat nejmodernější technologie. Integrační platforma bude dále využívána i v zakázkových projektech v rámci výkonnostního centra „Funkční integrace pro mikro-/nanoelektroniku“ a ve Výzkumné továrně mikroelektroniky Německa (FMD).


Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS
01109 Dresden
Německo


Lépe informováni: S ROČENKOU, NEWSLETTEREM, NEWSFLASH, NEWSEXTRA a ADRESÁŘEM ODBORNÍKŮ

Buďte aktuální a přihlaste se k odběru našeho měsíčního e-mailového NEWSLETTERU a NEWSFLASH a NEWSEXTRA. Získejte další informace o dění ve světě čistých prostorů s naší tištěnou ROČENKOU. A zjistěte, kdo jsou odborníci na čisté prostory, v našem adresáři.

Piepenbrock Vaisala Buchta HJM