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- Elektronik (Wafer, Halbleiter, Mikrochips,...)
Imec demonstriert die Weiterentwicklung chemisch verstärkter Resists für die EUV-Lithografie mit hoher numerischer Apertur (NA)
– Imec optimiert die CAR-basierte Technologie für die Single-Patterning-Verfahren mit hoher NA im EUV-Bereich bei mehreren Schichten der Logik-Technologieknoten A14/A10.
– Es wurden verschiedene Logikstrukturen mit engen Abständen bei Metallleitungen und Durchkontaktierungen demonstriert, darunter Mä…












