-
- Konferencja
Postępy w procesach, maskach i technice pomiarowej pozwalają w pełni wykorzystać postęp w rozdzielczości, jaki oferuje pierwszy skaner EUV ASML 0.55NA.
Imec demonstruje gotowość ekosystemu wzorcowania EUV o wysokiej NA
W tym tygodniu imec, wiodące na świecie centrum badań i innowacji w dziedzinie nanoelektroniki i technologii cyfrowych, zaprezentuje na konferencji 2024 Advanced Lithography + Patterning postępy w procesach EUV, maskach i metrologii, opracowanych dla ekstremalnej litografii ultrafioletowej (EUV) z w…








