Imec demonstreert 18 nm Pitch Line/Space Patterning met behulp van een High-Chi Directed Self-Assembly proces
Deze week, op de SPIE Advanced Lithography Conference 2021, demonstreerde imec, een wereldwijd toonaangevend onderzoeks- en innovatiecentrum voor nano-elektronica en digitale technologieën, voor het eerst de mogelijkheid van Directed Self Assembly (DSA) om lijnen/ruimtes met een pitch van slechts 18…








