-
- Conferentie
Vooruitgang in processen, maskers en meettechnologie stelt ons in staat om de vooruitgang in resolutie volledig te benutten die wordt geboden door de eerste ASML 0.55NA EUV-scanner.
Imec toont de bereidheid van het High-NA EUV Patterning-ecosysteem
Deze week presenteert imec, een wereldwijd toonaangevend onderzoeks- en innovatiecentrum voor nano-elektronica en digitale technologieën, op de 2024 Advanced Lithography + Patterning Conference de vorderingen in EUV-processen, maskers en metrologie die ontwikkeld zijn voor extreme ultraviolet-lithog…








