


CO2-Reinigung mittels Membranpumpen
Flüssig, überkritisch, gasförmig: Reinigung von Silizium-Wafern mit überkritischem Kohlenstoffdioxid
Sauberkeit spielt bei der Produktion von Silizium-Wafern eine essentielle Rolle, um eine ordnungsgemäße Leitfähigkeit und Funktion der daraus produzierten integrierten Schaltkreise (ICs) zu gewährleisten. Dabei muss die Oberflächenrauheit der Wafer in mehreren Arbeitsschritten auf wenige Nanome…