Nachgewiesene Korrelation zwischen morphologischen und elektrischen Daten auf 28-nm-Pitch-Linien/-Spaces erhöht das Verständnis der Auswirkungen stochastischer Defekte auf die Zuverlässigkeit/Ausbeute der Bauelemente
Imec treibt die Single-Exposure-Patterning-Fähigkeit von 0,33NA EUVL bis an ihre Grenzen
Diese Woche präsentieren imec, ein weltweit führendes Forschungs- und Innovationszentrum für Nanoelektronik und digitale Technologien, und ASML, der weltweit führende Hersteller von Halbleiterlithografieanlagen, auf der SPIE Advanced Lithography Conference 2021 mehrere Vorträge, die die ultimat…
