Az eredmény egy fontos mérföldkő az AttoLab, az imec és a KMLabs számára
Imec bemutatja a 20 nm-es Pitch Line/Space Ellenőrző Képalkotás High-NA EUV Interferencia-litográfiával
Az imec, egy világszerte vezető kutatási és innovációs központ a nanoelektronikában és a digitális technológiákban, elsőként jelentette be egy 13,5 nm-es High Harmonic Generator-Forrás alkalmazását vonalak/távolságok nyomtatására 20 nm-es pitch-csel interferencia-litográfiával, egy Inpria-fémoxid-el…








