Nieve para la máxima pureza y funcionamiento confiable

La limpieza con chorro de nieve quattroClean permite la eliminación seca y suave de contaminantes, por ejemplo, después de la estructuración de MID. (Fuente de la imagen: acp systems AG)

El procedimiento compatible con Industria 4.0 puede integrarse en entornos de fabricación automatizados y la calidad del chorro de limpieza puede ser monitorizada con sensores y transmitida a un valor digital. (Fuente de la imagen: acp systems AG)

Cada vez estructuras más pequeñas y requisitos crecientes en fiabilidad y vida útil exigen en la fabricación electrónica una limpieza fiable y adaptada a las necesidades. La tecnología de chorro de nieve en seco quattroClean permite resolver de manera eficiente y en línea diferentes tareas de limpieza, incluso en salas limpias.

La tecnología de chorro de nieve en seco quattroClean, neutra en carbono y escalable, de acp systems AG, es un método de limpieza en seco compatible con Industria 4.0, que ha demostrado su eficacia en diversas aplicaciones en la fabricación electrónica. Entre ellas se incluyen la limpieza total o parcial de contaminaciones particuladas y/o filmógenas en componentes pasivos, así como antes o después del proceso de unión, montaje de placas de circuito impreso y placas de circuito impreso de lámina. La eliminación de residuos de ablación en la fabricación de MID también es un campo de aplicación. Otra utilización es la limpieza de componentes ópticos en litografía EUV, que están muy contaminados con adherencias y marcas de polvo. El proceso compatible con Industria 4.0 se puede adaptar e integrar fácilmente en entornos limpios o salas limpias.

Limpieza en seco y sin residuos

El medio utilizado en este proceso de limpieza es dióxido de carbono líquido, que tiene una vida útil ilimitada y se produce como subproducto en procesos químicos y en la generación de energía a partir de biomasa. Se dirige mediante un anillo de doble flujo patentado y sin desgaste, y al salir de la boquilla se expande en forma de nieve fina de CO2. Este chorro principal es dirigido por un chorro de aire comprimido en forma de anillo y acelerado a velocidad supersónica. Cuando la nieve de CO2, bien enfocado, impacta en la superficie a limpiar, se produce una combinación de efectos térmicos, mecánicos, de sublimación y de solvente. La interacción de estos cuatro mecanismos elimina de manera segura y reproducible contaminaciones particuladas y filmógenas. Como la limpieza es suave con el material, también se pueden tratar superficies sensibles y de estructura fina.

Las contaminaciones desprendidas son expulsadas por la fuerza aerodinámica del aire comprimido y eliminadas mediante un sistema de aspiración integrado.
Para mantener una calidad de proceso constante, la consistencia del chorro de cada boquilla puede ser monitorizada individualmente y de forma continua mediante un sistema de sensores, cuyos valores se almacenan automáticamente y se transmiten a un sistema superior.