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Los avances en procesos, máscaras y tecnología de medición permiten aprovechar al máximo el progreso en la resolución que ofrece el primer escáner EUV 0.55NA de ASML.
Imec demuestra la disposición del ecosistema de patrón de EUV de alta NA
Esta semana, imec, un centro de investigación e innovación líder mundial en nanoelectrónica y tecnologías digitales, presenta en la Conferencia de Litografía Avanzada + Patterning 2024 los avances en procesos EUV, máscaras y metrología, desarrollados para la litografía ultravioleta extrema (EUV) con…








