Nový rok, nová práce? Podívejte se na nabídky! více ...
Hydroflex MT-Messtechnik Piepenbrock Pfennig Reinigungstechnik GmbH
cleanroom online
Němčina Angličtina Francouzština Maďarština Polština Čeština Italština Španělština Nizozemština

Všechny publikace k rubrice Elektronika (wafer, polovodiče, mikročipy,...)

Nový měřicí adaptér pro současné kontaktování až osmi párů interdigitalních elektrod. © Fraunhofer IPMS / New measurement adapter for simultaneous contacting of up to eight interdigital electrode pairs. © Fraunhofer IPMS Explosivní schéma měřicího adaptéru s umístěním čipu AX1580. Červené zásuvky kontaktují bránu, zatímco SMA zásuvky kontaktují každý pár zdroj-odvod. © Fraunhofer IPMS / Explozivní pohled na měřicí adaptér ukazující umístění čipu AX1580. Červené zásuvky se připojují ke bráně, zatímco SMA zásuvky se připojují ke každému páru zdroj-odvod. © Fraunhofer IPMS Čip AX1580, 15x15 mm², s 8 zlatými interdigitálními elektrodovými páry s šířkou kanálu 10 mm a délkami kanálů 2,5; 5; 10 a 20 µm. Samotný čip může být použit jako bránková elektroda; bránkový oxid mezi bránou a interdigitálními elektrodami je typicky SiO₂ s tloušťkou 230 nm. © Fraunhofer IPMS / Čip AX1580, 15x15 mm², s 8 zlatými interdigitálními elektrodovými páry s šířkou kanálu 10 mm a délkami kanálů 2,5; 5; 10 a 20 µm. Samotný čip může být použit jako bránková elektroda; bránkový oxid mezi bránou a interdigitálními elektrodami je typicky SiO₂ s tloušťkou 230 nm. © Fraunhofer IPMS
  • ‌
  • Elektronika (wafer, polovodiče, mikročipy,...)

Revoluční čipy pro výzkum materiálů

Fraunhofer IPMS uzavírá mezeru v charakterizaci organických polovodičů

Inovativní čipy Fraunhoferova institutu pro fotonické mikrosystémy IPMS revolucionalizují charakterizaci organických materiálů a urychlují vývoj nových elektronických aplikací. Nově vyvinutý měřicí adaptér umožňuje poprvé současné kontaktování až osmi párů interdigitálních elektrod a stanovuje tak n…
Čistý prostor Imec tvoří základ pro PDK společnosti NanoIC, založené na 2nm výrobních procesech. (Obrázek: Imec) / Čistý prostor společnosti Imec poskytuje základ pro PDK společnosti NanoIC, založené na 2nm výrobních postupech. (Fotografie: Imec)
  • ‌
  • Workshop / Kurzkurz

Rozsáhlá aktualizace Pathfinding N2 P-PDK od NanoIC umožňuje vědcům a vývojářům se seznámit s kompletními architekturami SoC a posouvat inovace vpřed.

NanoIC rozšiřuje svůj průlomový N2-PDK o pokročilé SRAM paměťové makrobloky

NanoIC-Pilotlinie, jedna z evropských iniciativ koordinovaných imec za účelem urychlení inovací v oblasti čipových technologií nad 2 nm, oznámila vydání N2 P-PDK v1.0, důležité aktualizace jejich N2 Pathfinding Process Design Kit (P-PDK). Tato verze obsahuje několik nových funkcí, včetně knihovny s…
Obrázek 1 – (vlevo) Přenosové charakteristiky 2D-pFET zařízení s defektem-passivovanými synteticky vytvořenými vrstvami WSe2, přičemž nejlepší zařízení vykazuje Imax = 690 µA/µm; (vpravo) TEM řez finálního dvoubranného 2D pFET (Lch=délka kanálu TG=vrchní brána; BG=zadní brána; S=zdroj; D=odvod; IL=mezivrstva), ve spolupráci s TSMC. Obrázek 2 – (a) Suché leptání do SiO₂; (b) suché a mokré leptání, které se selektivně zastaví na monovrstvovém kanálu WS₂, přičemž také dochází k bočnímu odstranění mezivrstva AlOx po celé délce kanálu (ve spolupráci s Intelem).
  • ‌
  • Elektronika (wafer, polovodiče, mikročipy,...)

Spolupráce s předními výrobci polovodičů je klíčová pro optimalizaci rozhodujících modulů pro integraci 2D materiálů do prvků

Imec dále rozvíjí technologii stavebních bloků založenou na 2D materiálech, aby podpořil cestovní mapu pro budoucí logické technologie

– Ve spolupráci s předními výrobci polovodičů se Imec zabývala hlavními výzvami při dalším vývoji technologie 2D čipů, která je považována za dlouhodobou možnost rozšíření roadmapy logických technologií.
– Spolupráce s TSMC vedla k pFETům na bázi WSe2 s rekordními výkony (s Imax až do 690 µA/µm), kte…
Imec provádí průkopnickou práci při výrobě pevných nanopor ve velikosti waferu (300 mm) pomocí EUV litografie, jak je vidět na fotografii. © imec / Imec průkopníkem výroby pevných nanopor na celé waferové velikosti (300 mm) s EUV litografií, jak je znázorněno na fotografii. © imec Průřez a pohled shora v TEM: Vyrobená polovodičová nanodíra. / Průřez a pohled shora v TEM na vyrobenou polovodičovou nanodíru, Průřez a pohled shora v TEM: Vyrobená polovodičová nanopora. / Cross-sectional and top-view TEM of the fabricated solid-state nanopore,
  • ‌
  • Elektronika (wafer, polovodiče, mikročipy,...)

Průlom umožňuje škálovatelné, vysoce přesné biosenzorické aplikace v biovědách a v lékařském inženýrství

Imec poprvé demonstruje výrobu polovodičových nanoportů na waferové úrovni pomocí EUV-litografie

1. Imec dosáhla prvního úspěšného výroby polovodičových nanopór v rámci waferu pomocí EUV litografie na 300mm waferech. Tato inovace přeměňuje technologii nanopór z konceptu v laboratoři na škálovatelnou platformu pro biosenzory, genomiku a proteomiku.
2. Nanopory jsou chváleny jako klíčový pokrok v…
Vývoj laserů u TRUMPF (Zdroj obrázku: TRUMPF) / Vývoj laserů ve společnosti TRUMPF (Foto: TRUMPF)
  • ‌
  • Elektronika (wafer, polovodiče, mikročipy,...)

Vývoj kvantových algoritmů // Společný projekt TRUMPF, Fraunhofer-Institut für Lasertechnik ILT a FU Berlín // Usiluje se o zvýšení efektivity v laserové technice

Výzkumný projekt: TRUMPF chce pomocí kvantových počítačů vylepšit své lasery

Vysokotechnologická společnost TRUMPF, Fraunhofer-Institut für Lasertechnik ILT a Dahlem Center for Complex Quantum Systems na Fakulty fyziky Freie Universität Berlin zkoumají základy laserové fyziky pomocí kvantových algoritmů. Dlouhodobým cílem je v budoucnu urychlit vývojový proces nových laserů…
MP220-4 od Steinmeyer Mechatronik je kompaktní, ekonomická a přesná alternativa k systémům Hexapod – ideální pro Active-Alignment procesy ve výrobě polovodičů a optiky. (Obrázek: Steinmeyer Gruppe)
  • ‌
  • Elektronika (wafer, polovodiče, mikročipy,...)

Inovativní poziční systém pro kombinované pohyby XY a Tip/Tilt

Vysoce přesné aktivní vyrovnání řešení pro optické a polovodičové aplikace

Se systémem MP220-4 nabízí společnost Steinmeyer Mechatronik, podnik skupiny Steinmeyer, vysoce přesný XYZ Tip-Tilt polohovací systém pro optické a aktivní zarovnávací procesy v optické a polovodičové výrobě, nyní také pro vyšší zatížení. Toto řešení kombinuje vynikající přesnost, vysokou životnost…
Čistý prostor Imec tvoří základ pro PDK společnosti NanoIC, založené na 2nm výrobních procesech. / Čistý prostor Imec poskytuje základnu pro PDK společnosti NanoIC, založené na 2nm výrobních postupech.
  • ‌
  • Workshop / Kurzkurz

Rozsáhlá aktualizace Pathfinding N2 P-PDK od NanoIC umožňuje výzkumníkům a vývojářům seznámit se s kompletními architekturami SoC a posunout inovace kupředu.

NanoIC rozšiřuje svůj průlomový N2-PDK o pokročilé SRAM paměťové makrobloky

Tento týden NanoIC-Pilotlinie, evropská iniciativa koordinovaná společností imec k urychlení inovací v oblasti čipových technologií nad 2 nm, oznámila na SEMICON Europe vydání N2 P-PDK v1.0, důležité aktualizace jejich N2 Pathfinding Process Design Kit (P-PDK). Tato nová verze obsahuje několik novýc…
Pohled do NEWSLETTERU

Lépe informováni: S ROČENKOU, NEWSLETTEREM, NEWSFLASH, NEWSEXTRA a ADRESÁŘEM ODBORNÍKŮ

Buďte aktuální a přihlaste se k odběru našeho měsíčního e-mailového NEWSLETTERU a NEWSFLASH a NEWSEXTRA. Získejte další informace o dění ve světě čistých prostorů s naší tištěnou ROČENKOU. A zjistěte, kdo jsou odborníci na čisté prostory, v našem adresáři.

PMS Becker Systec & Solutions GmbH Vaisala