Nowy rok, nowa praca? Sprawdź oferty! Więcej ...
Piepenbrock Pfennig Reinigungstechnik GmbH C-Tec Becker



Strukturyzacja pojedynczego eksponowania z pitch'em 28 nm za pomocą procesu MOx firmy Inpria na skanerze EUV pełnego pola o NA 0,33 po metalizacji Ru. / 28nm pitch single-exposure patterning using Inpria’s MOx process on a 0.33NA EUV full field scanner after Ru metallization. 24nm rozstaw linii/odstępy, uzyskane na skanerze pełnego pola NXE:3400B o NA 0,33, (po lewej) po wywołaniu i (po prawej) po trawieniu na krytycznym wymiarze celu (CD) (uLER = nieobciążona chropowatość krawędzi linii). / 24nm rozstaw linii/przerw uzyskane na skanerze pełnego pola NXE:3400B o NA 0,33, (po lewej) po wywołaniu i (po prawej) po trawieniu na krytycznym wymiarze celu (CD) (uLER = nieobciążona chropowatość krawędzi linii). 28nm otwory kontaktowe, uzyskane na skanerze pełnofieldowym NXE:3400 o NA 0,33, po wywołaniu. / 28nm contact holes obtained on a 0.33NA NXE:3400 full field scanner, after developing.

Udowodniona korelacja między danymi morfologicznymi a elektrycznymi na liniach/przestrzeniach o rozstawie 28 nm zwiększa zrozumienie wpływu losowych defektów na niezawodność/wydajność elementów

Imec pchnie zdolność do pojedynczego wzoru ekspozycji EUVL o NA 0,33 aż do granic

W tym tygodniu imec, światowy lider w dziedzinie badań i innowacji w zakresie nanoelektroniki i technologii cyfrowych, oraz ASML, światowy lider w produkcji maszyn do litografii półprzewodnikowej, przedstawią na konferencji SPIE Advanced Lithography Conference 2021 kilka referatów, które demonstrują…

Wyróżnienie w pięciu głównych kategoriach potwierdza Vetter jako niezawodnego partnera także w trudnych czasach

Vetter schneidet auch 2021 erfolgreich bei den CMO Leadership Awards ab

- Vetter wyróżnia się bardzo dobrymi ocenami w kluczowych kategoriach
- Wyniki odzwierciedlają pozytywne doświadczenia klientów
- Nagroda podkreśla wysokie ukierunkowanie na klienta firmy farmaceutycznej

Vetter, globalnie wiodąca organizacja zajmująca się Contract Development i Manufacturing (CDMO), zo…

Współpraca między Sarcura a imec ma na celu opracowanie rozwiązania cytometrycznego opartego na fotonice krzemowej, które umożliwia kontrolę procesu i manipulację komórkami w czasie rzeczywistym.

SARCURA i imec współpracują nad rozwiązaniem wysokoprzepustowym do cytometrii do automatycznego (T-)oddzielania komórek, aby sprostać wyzwaniom związanym z produkcją terapii komórkowych i genowych

Sarcura GmbH, austriacki startup technologiczny na wczesnym etapie rozwoju, ogłosiła dzisiaj współpracę z imec, światowym liderem w dziedzinie badań i innowacji w zakresie nanoelektroniki i technologii cyfrowych. Celem jest opracowanie prototypu z czujnika cytometrycznego opartego na chipie krzemowy…

Lepsza informacja: ROCZNIK, NEWSLETTER, NEWSFLASH, NEWSEXTRA oraz KATALOG EKSPERTÓW

Bądź na bieżąco i subskrybuj nasz comiesięczny newsletter e-mail oraz NEWSFLASH i NEWSEXTRA. Dodatkowo dowiedz się z drukowanego ROCZNIKA, co dzieje się w świecie cleanroomów. A z naszego katalogu dowiesz się, kto jest EKSPERTEM w cleanroomie.

ClearClean MT-Messtechnik HJM Vaisala