Nowy rok, nowa praca? Sprawdź oferty! Więcej ...
Buchta Piepenbrock MT-Messtechnik Becker



Wszystkie publikacje w rubryce Elektronika (wafer, półprzewodniki, mikroczipy,...)

4-calowy wafer GaN na SiC technologii GaN07 Fraunhofer IAF. Wafle są w pełni produkowane i testowane na własnej linii półprzewodnikowej firmy, obejmując projektowanie, epitaksję, obróbkę waferów i charakteryzację. © Fraunhofer IAF / Frontside processed 4-inch GaN-on SiC wafer of Fraunhofer IAF's GaN07 technology. Wafle są całkowicie wykonane i testowane na linii procesowej III-V Fraunhofer IAF, w tym projektowanie i produkcja zestawów masek do obróbki, epitaksja, obróbka waferów i charakteryzacja. © Fraunhofer IAF
  • Know How, Instytut

EuMW 2025: Fraunhofer IAF prezentuje 70-nm tranzystor GaN dla satelitów wysokoprzepustowych

Technologia półprzewodników dla szerokopasmowej komunikacji satelitarnej osiąga rekordową wydajność

Badacze z Fraunhofer IAF opracowali technologię tranzystorów GaN z bramką o długości 70 nm, która w warunkach typowych dla satelitów osiąga rekordowe wartości pod względem wydajności. Technologia ta ma umożliwić w przyszłości kompaktowe aktywne anteny do szybkich transferów danych w…

Kontrolluntersuchungen im Wafer-Herstellungsprozess. © Fraunhofer IPMS / Kontrolldurchführung im Wafer-Herstellungsprozess. © Fraunhofer IPMS
  • Media ponowne (woda, gazy, ...)

Reines Wasser für eine nachhaltige Halbleiterproduktion

Fraunhofer IPMS, AlixLabs i NSS Water rewolucjonizują zrównoważone zarządzanie wodą oczyszczoną w produkcji półprzewodników

AlixLabs i NSS Water ogłaszają strategiczną współpracę nad rozwojem zrównoważonych i opłacalnych rozwiązań w zakresie zarządzania wodą wysokiej czystości (niem. ultra-pure water, UWP) w produkcji chipów. Ze względu na rosnące obawy związane z ciągłym wzrostem zużycia wody przez…

Eksperci z DIVE i Fraunhofer IPMS w czystym pomieszczeniu w Dreźnie. © Fraunhofer IPMS / Eksperci z DIVE i Fraunhofer IPMS w czystym pomieszczeniu w Fraunhofer IPMS w Dreźnie. © Fraunhofer IPMS Systemy obrazowania firmy DIVE umożliwiają bezinwazyjną kontrolę wafli. © DIVE imaging systems GmbH / Systemy obrazowania od DIVE do nieinwazyjnej kontroli wafli. © DIVE imaging systems GmbH
  • Urządzenia

Innowacyjne partnerstwo na rzecz oszczędzającej zasoby kontroli wafli

Fraunhofer IPMS i DIVE optymalizują procesy półprzewodnikowe za pomocą innowacyjnego systemu pomiarowego

Fraunhofer-Institut für photonische Mikrosysteme IPMS wspólnie z firmą DIVE imaging systems GmbH dokonał przełomowego kroku w kierunku oszczędnej produkcji półprzewodników. Dzięki udanej instalacji optycznego urządzenia pomiarowego firmy DIVE w czystym pomieszczeniu Fraunhofer IPMS można…

Lepsza informacja: ROCZNIK, NEWSLETTER, NEWSFLASH, NEWSEXTRA oraz KATALOG EKSPERTÓW

Bądź na bieżąco i subskrybuj nasz comiesięczny newsletter e-mail oraz NEWSFLASH i NEWSEXTRA. Dodatkowo dowiedz się z drukowanego ROCZNIKA, co dzieje się w świecie cleanroomów. A z naszego katalogu dowiesz się, kto jest EKSPERTEM w cleanroomie.

Hydroflex Vaisala Pfennig Reinigungstechnik GmbH ClearClean