Nowy rok, nowa praca? Sprawdź oferty! Więcej ...
Piepenbrock Buchta Vaisala HJM
reinraum online
Niemiecki Angielski Francuski Węgierski Polski Czeski Włoski Hiszpański Niderlandzki
3 kroki 10 najczęstszych błędów
  • ‌
  • Dezynfekcja | Metody, urządzenia, środki, media (tkaniny, wymazówki,...)

Czyszczenie i dezynfekcja pomieszczeń czystych w praktyce: 10 najczęstszych błędów, które zwiększają ryzyko – i jak ich unikać

10 najczęstszych błędów podczas czyszczenia i dezynfekcji pomieszczeń czystych

Wenn es um GMP geht, stehen meist Herstellprozesse, Validierungen oder Qualifizierungen im Mittelpunkt. Die Reinigung taucht in vielen Betrieben eher am Rand auf – als Routineaufgabe, die „mitläuft“.

Aber was denken Sie – wie viele GMP-Abweichungen hängen tatsächlich mit Reinigung zusammen?

Die Antwor…
Imec dokonuje pionierskich prac nad produkcją nanoporów w stanie stałym na skalę wafla (300 mm) z wykorzystaniem litografii EUV, jak widać na zdjęciu. © imec / Imec pionieruje pełną produkcję nanoporów w stanie stałym na skalę wafla (300 mm) z użyciem litografii EUV, jak pokazano na zdjęciu. © imec Przekrój i widok z góry w TEM: wyprodukowana półprzewodnikowa nanopor. / Cross-sectional and top-view TEM of the fabricated solid-state nanopore, Przekrój i widok z góry w TEM: wyprodukowana półprzewodnikowa nanopor. / Cross-sectional and top-view TEM of the fabricated solid-state nanopore,
  • ‌
  • Elektronika (wafer, półprzewodniki, mikroczipy,...)

Przełom umożliwia skalowalne, wysoce precyzyjne zastosowania biosensorowe w naukach biologicznych i technice medycznej

Imec po raz pierwszy za pomocą lithografii EUV demonstruje produkcję półprzewodnikowych nanoporów na waflach w skali przemysłowej

1. Imec osiągnął pierwszą udaną produkcję półprzewodnikowych nanoporów na skalę wafla za pomocą EUV-Lithographie na waflach 300 mm. Ta innowacja zamienia technologię nanoporów z koncepcji laboratoryjnej na skalowalną platformę dla biosensorów, genomiki i proteomiki.
2. Nanopory są chwalone jako klucz…
Indywidualne planowanie, dokumentacja i uruchomienie rozwiązania automatyzacyjnego dla systemu czyszczenia, a także jego integracja z istniejącymi liniami produkcyjnymi dopełniają ofertę firmy. (Zdjęcie: acp systems AG) / Customized planning, documentation, and commissioning of the automation solution for the cleaning system, as well as its integration into existing production lines, round off the company's range of services. (Photo: acp systems AG) Skalowalny proces śnieżny quattroClean jest również stosowany do czyszczenia Front-Opening Unified Pods (FOUP), aby zapewnić czystość wafli w produkcji półprzewodników podczas ich przechowywania i transportu. (Zdjęcie: acp systems AG) / The scalable quattroClean snow jet process is also used for cleaning Front-Opening Unified Pods (FOUP) to ensure the cleanliness of wafers in semiconductor manufacturing during storage and transport. (Photo: acp systems AG) Dla opracowania procesu i ustalenia optymalnych parametrów czyszczenia dostosowanych do konkretnego zastosowania, producent posiada własne laboratorium czystego pomieszczenia. (Zdjęcie: acp systems AG) / The manufacturer has its very own cleanroom technical center for designing processes and determining the optimal cleaning parameters for specific applications. (Photo: acp systems AG) Trocka, oszczędzająca zasoby technologia strumienia śniegu quattroClean spełnia wysokie wymagania dotyczące czystości w produkcji elektroniki w sposób stabilny i powtarzalny. Oto zastosowanie z dziedziny medycyny, w którym czyszczony jest zarówno chip, jak i jego opakowanie. (Zdjęcie: acp systems AG) / The dry, resource-saving quattroClean snow jet technology meets the high cleanliness requirements in electronics manufacturing in a robust and reproducible manner. Here is an application from medical technology in which both a chip and its packaging are cleaned. (Photo: acp systems AG)
  • ‌
  • Czyszczenie | Metody, urządzenia, środki, media (tkaniny, wymiany,...)

quattroClean-Technologia do usuwania śniegu metodą strumieniową – suchy i zintegrowany z procesem czyszczenia

Rozwiązanie wyzwań związanych z czyszczeniem w produkcji elektroniki i półprzewodników w sposób zrównoważony i efektywny

Produkcja elektroniki i półprzewodników stoi przed różnymi wyzwaniami: coraz mniejsze struktury, rosnące wymagania dotyczące gęstości mocy, niezawodności i bezpieczeństwa komponentów elektronicznych oraz nowe technologie produkcji, które wymagają wyższej precyzji i czystości technicznej. Postępujący…
Rozwój laserów w TRUMPF (Źródło zdjęcia: TRUMPF) / Rozwój laserów w TRUMPF (Zdjęcie: TRUMPF)
  • ‌
  • Elektronika (wafer, półprzewodniki, mikroczipy,...)

Rozwój algorytmów kwantowych // Wspólny projekt TRUMPF, Instytutu Fraunhofera ds. Technologii Laserowych ILT oraz Uniwersytetu w Berlinie // Dąży się do zwiększenia wydajności w technologii laserowej

Projekt badawczy: TRUMPF chce ulepszyć swoje lasery za pomocą komputerów kwantowych

Firma high-tech TRUMPF, Instytut Fraunhofer dla Technologii Laser ILT oraz Centrum Kompleksowych Systemów Kwantowych Dahlem na Wydziale Fizyki Freie Universität Berlin badają podstawy fizyki laserów za pomocą algorytmów kwantowych. Celem długoterminowym jest przyspieszenie procesu rozwoju nowych las…
Kluczowy jest cały proces. Dzięki bezszwowej integracji procesów czyszczenia i pomieszczeń czystych poszczególne kroki są idealnie dopasowane. Najwyższa czystość i najwyższe bezpieczeństwo wynikają z wyboru optymalnej technologii czyszczenia oraz ciągłego monitorowania czystości środowiska produkcyjnego. (Zdjęcia: LPW i Weiss Klimatechnik) Klimatyzacja w czystym pomieszczeniu Weiss Klimatechnik zapewnia stabilne warunki i oszczędza energię. Zastosowane systemy filtracji oraz obróbka termiczna i higieniczna osiągają klasę ISO 6 lub 5. (Zdjęcia: LPW i Weiss Klimatechnik) Reinräume schaffen jene Umgebungsbedingungen, die für die Folgeprozesse (Montage, Verpackung etc.) nach der Teilereinigung erforderlich sind. Die Reinigungstechnik muss an diese Bedingungen in enger technischer Abstimmung adaptiert werden. (Fotos: LPW und Weiss Klimatechnik) System PowerJet Compact CNp (od lewej do prawej: moduł Clean, Clean AM i Pure) jest standardowo wyposażony w wbudowaną komorę obróbki w obu zbiornikach na materiał, przeznaczoną do towarów o rozmiarze do 600 x 400 x 300 mm i masie do 150 kg. Obieg obiegu ma zintegrowaną pełnofiltrowanie z powierzchnią filtra przekraczającą 4 m² oraz jednostki filtrujące do 0,5 µm. (Zdjęcia: LPW i Weiss Klimatechnik)
  • ‌
  • Czyszczenie | Metody, urządzenia, środki, media (tkaniny, wymiany,...)

Współpraca LPW i Weiss Klimatechnik

Modułowy system czyszczenia i czysta sala dla najwyższych wymagań wysokiej czystości

Gdy wymagana jest najwyższa czystość, nieodzowne są precyzyjne oraz bezbłędnie dopasowane procesy. W tym zakresie partnerami są firmy LPW Reinigungssysteme GmbH oraz Weiss Klimatechnik GmbH. Oferują one kompleksowe rozwiązania wysokiej czystości dla branż takich jak medycyna, technologia półprzewodn…
Montech taśmy do oczyszczalni z udowodnionym niskim emisją cząstek. (Copyright: MONTECH AG)
  • ‌
  • Systemy transferowe

Fraunhofer IPA potwierdza czystość w pomieszczeniach sterylnych trzech podnośników Montech. Testowane modele spełniają wymagania do klasy ISO 4 i zapewniają wysoką bezpieczeństwo procesu dla wrażliwych środowisk produkcyjnych.

Fraunhofer IPA potwierdza czystość środowiska w trzech taśmach transportowych Montech

Firma Montech AG otrzymała od Instytutu Fraunhofer ds. Technologii Produkcji i Automatyzacji IPA certyfikat TESTED DEVICE® dla trzech modeli przenośników taśmowych. Testowano modele TB30R-140x1500/VR, TB40R-400x1500/VR oraz TB30R-140x1500/MR. Wszystkie trzy systemy dowodzą spełnienia wymagań czystoś…
Wyznaczanie siły docisku Ustalenie siły docisku
  • ‌
  • Czyszczenie | Metody, urządzenia, środki, media (tkaniny, wymiany,...)

Idealny proces wycierania w czyszczeniu pomieszczeń czystych

Inteligentny uchwyt na mop dostarcza fakty zamiast fake news

Sprzątanie i dezynfekcja należą do najważniejszych zadań w funkcjonowaniu pomieszczeń czystych. Stanowią podstawę utrzymania czystości i zapewniają bezpieczną pracę tych bardzo wrażliwych środowisk. Pomimo postępu technicznego w wielu dziedzinach technologii pomieszczeń czystych, proces mycia nadal…
Das MP220-4 von Steinmeyer Mechatronik ist eine kompakte, wirtschaftliche und präzise Alternative zu Hexapod-Systemen – ideal für Active-Alignment-Prozesse in der Halbleiter- und Optikfertigung. (Bild: Steinmeyer Gruppe)
  • ‌
  • Elektronika (wafer, półprzewodniki, mikroczipy,...)

Innowacyjny system pozycjonowania do kombinowanych ruchów XY oraz Tip/Tilt

Rozwiązanie aktywnego wyrównania o wysokiej precyzji dla zastosowań optycznych i półprzewodnikowych

Mit the MP220-4 bietet Steinmeyer Mechatronik, ein Unternehmen der Steinmeyer-Gruppe, ein hochpräzises XYZ Tip-Tilt Positioniersystem für optische und aktive Ausrichtprozesse in der Optik- und Halbleiterfertigung jetzt auch für höhere Lasten. Die Lösung vereint exzellente Präzision, hohe Lebensdauer…
Podgląd NEWSLETTERÓW

Lepsza informacja: ROCZNIK, NEWSLETTER, NEWSFLASH, NEWSEXTRA oraz KATALOG EKSPERTÓW

Bądź na bieżąco i subskrybuj nasz comiesięczny newsletter e-mail oraz NEWSFLASH i NEWSEXTRA. Dodatkowo dowiedz się z drukowanego ROCZNIKA, co dzieje się w świecie cleanroomów. A z naszego katalogu dowiesz się, kto jest EKSPERTEM w cleanroomie.

Pfennig Reinigungstechnik GmbH PMS C-Tec Systec & Solutions GmbH