-
- Elektronica (wafer, halfgeleider, microchips,...)
Een belangrijke stap op weg naar het Ängström-tijdperk
Imec ontvangt het meest geavanceerde High-NA-EUV-systeem ter wereld
– Imec kondigt aan dat de ASML EXE:5200, het meest geavanceerde EUV-lithografiesysteem ter wereld met hoge numerieke opening (High NA), is gearriveerd in haar cleanroom van 300 mm in Leuven.
– Het gebruik van het High-NA-EUV-systeem in directe combinatie met geavanceerde meet- en structureringsappara…








