De tijd benutten en efficiënt beslissingen voorbereiden

Het is een moeilijke tijd voor de halfgeleiderindustrie, een moeilijke tijd voor beslissingen. Onrust en onzekerheid zorgen ervoor dat investeringen worden uitgesteld. Maar wat spreekt ertegen om deze tijd effectief te gebruiken om relevante informatie voor beslissingen in te winnen? Want uitstellen of niet, na elke crisis volgt een opleving en je moet voorbereid zijn op die periode.

Wat de beslissing betreft voor de volgende natte procesinstallatie, ondersteunt het AP&S Demo Center. Het team van ervaren procesingenieurs helpt bij het grondig controleren van alle relevante beslissingcriteria en bereidt de beslissingen zo goed mogelijk voor.

Hoe werkt het?

De klant vraagt bij AP&S een demonstratie aan van het natte proces of de natte procesinstallatie die hem interesseert. Via een live videochat kan de klant het natte proces bijwonen en de resultaten op zijn scherm zien. Kan men niet op dat moment? Geen probleem, het team van AP&S neemt het proces op met de geïntegreerde camera in de proceskamer en stuurt de opnames naar de klant toe.

Bovendien ontvangt de klant een gedetailleerd testrapport inclusief alle relevante proces- en installatiewaarden, informatie over het chemiegebruik en meer, zodat hij op basis van deze gegevens de CoO van de apparatuur voor de productie kan berekenen.

Volgens de procesresultaten van de demonstratie maken de procesingenieurs een aanbeveling voor een plausibele installatieconfiguratie, die precies is afgestemd op de specifieke behoeften en eisen.

Het Demo Center van AP&S voldoet aan de reinheidsklasse ISO5. Zo worden alle procesdemonstraties onder productie-achtige omstandigheden uitgevoerd. Door de verwerking onder cleanroomcondities kunnen verwerkte wafers van het AP&S Demo Center zonder extra reinigingsstappen direct bij de klant worden geanalyseerd en gecontroleerd.

Sinds 2013 neemt het aantal klantendemo's in het AP&S Demo Center gestaag toe. In 2018 is deze verder uitgebreid met extra installaties, waaronder een ultramodern microscoop met CCD-camera. Zowel single wafer- als batchprocesdemonstraties zijn mogelijk.

De volgende processen worden in het Demo Center door AP&S aangeboden: Metal Lift-off, PR-Strip, Metal Etch met End-Point-Detection, andere etpprocessen (dHF max. 0,5%), maskersreiniging, diverse substratenreinigingen, NID-droogproces voor standaardsubstraten, Taiko, MEMS, dunne wafers, enzovoort.