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I residui di polvere formatisi durante il taglio dei wafer con laser vengono rimossi efficacemente con la tecnologia a getto di neve quattroClean. La prova di pulizia è stata effettuata con un microscopio digitale utilizzando marchi con un diametro esterno di 0,4 mm. (Fonte immagine: acp systems) La sinergia dei meccanismi di azione della tecnologia a getto di neve quattroClean consente di rimuovere contaminazioni particellari fino all'intervallo submicrometrico e le più sottili contaminazioni filmiche in modo sicuro e riproducibile. (Fonte immagine: acp systems) / Grazie all'interazione degli effetti della tecnologia a getto di neve quattroClean, le contaminazioni particellari fino alla gamma submicrometrica e le più sottili contaminazioni filmiche vengono rimosse in modo affidabile e coerente. (Credito fotografico: acp systems) La JetStation-HP, progettata e dotata per l'uso in camere bianche, è stata sviluppata per compiti di pulizia flessibili con i più alti requisiti di pulizia. Viene caricata manualmente e può essere operata in modalità automatizzata o semi-automatizzata come soluzione autonoma. (Fonte immagine: acp systems) La progettazione del processo, in cui tutti i parametri di processo sono adattati con precisione all'applicazione specifica, alle proprietà del materiale, alle contaminazioni da rimuovere e ai requisiti di pulizia, avviene nel centro tecnico di acp systems. (Fonte immagine: acp systems)
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Pulizia con getto di neve di CO₂ per la massima purezza

Componenti high-tech puliti in modo affidabile e sostenibile in ambiente sterile

Il numero di componenti che richiedono una pulizia in camera bianca a causa di specifiche di pulizia più rigorose aumenta costantemente – e ciò riguarda numerosi settori industriali. Per questi compiti, che di solito non possono essere risolti con metodi di pulizia tradizionali, la tecnologia sosten…

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