Il risultato segna una pietra miliare importante di AttoLab di imec e KMLabs
Imec presenta l'imaging di linee/spazi a passo di 20 nm con litografia a interferenza EUV ad alta NA
Imec, un centro di ricerca e innovazione leader a livello mondiale per la nanoelettronica e le tecnologie digitali, annuncia per la prima volta l'impiego di una sorgente di Generatore di Armoniche Alte a 13,5 nm per la stampa di linee/distanze con passo di 20 nm mediante litografia a interferenza di…








