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cleanroom online


Processo di litografia nella camera bianca da 300 mm del Fraunhofer IPMS - Center Nanoelectronic Technologies (CNT). © Fraunhofer IPMS / Litografia nella camera bianca da 300 mm al Fraunhofer IPMS - Center Nanoelectronic Technologies (CNT). © Fraunhofer IPMS Il lavoro nel clean room da 200 mm presso Fraunhofer IPMS. © Fraunhofer IPMS / Ricerca & Sviluppo nel clean room da 200 mm. © Fraunhofer IPMS 720p OLED-Mikrodisplay © Fraunhofer IPMS / 720p OLED microdisplay. © Fraunhofer IPMS
  • Elettronica (wafer, semiconduttori, microchip,...)

Sviluppi dal laboratorio alla produzione su livelli di 200 e 300 mm

Ricerca per il futuro, trasferimento delle applicazioni per il presente

I progressi nell'industria e nella tecnologia richiedono continuamente nuove soluzioni nella produzione di microchip, sia da un punto di vista tecnico, economico che ecologico. Con ricerche all'avanguardia e un parco impianti altamente moderno, l'Istituto Fraunhofer per i Sistemi Micro Ottici IPMS s…

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