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AIXTRON avvia la costruzione del nuovo centro di innovazione
Il principale fornitore di impianti di deposizione per l'industria dei semiconduttori investe circa 100 milioni di euro nella sede di Herzogenrath. Con questo, AIXTRON crea una base importante per la continua crescita di successo.
AIXTRON SE (FSE: AIXA, ISIN DE000A0WMPJ6) ha ufficialmente iniziato la costruzione del nuovo centro di innovazione presso la sede di Herzogenrath. Il costruttore di impianti specializzati investe circa 100 milioni di euro – in 1000m2 di ambiente sterile con ulteriori spazi dedicati alla tecnologia di misurazione correlata. Verrà così creata una struttura di ricerca con le tecnologie più avanzate disponibili nel settore. I primi impianti dovrebbero già essere trasferiti nel nuovo edificio nella seconda metà del 2024. La consegna ufficiale è prevista per l'inizio del 2025.
Questo traguardo nella storia di successo dell'azienda è stato celebrato con una cerimonia simbolica di posa della prima pietra, alla quale hanno partecipato rappresentanti di politica, scienza e ricerca, nonché importanti fornitori dell'azienda. Il contesto di questa tappa cruciale è stato segnato da un evento ufficiale in occasione del 40° anniversario della AIXTRON. Fondata per la prima volta nel dicembre 1983 come spin-off dell'RWTH Aachen, AIXTRON si è sempre posizionata all'avanguardia nel campo dell'innovazione e dello sviluppo di nuove tecnologie semiconduttori rivoluzionarie. Il nuovo centro di innovazione prosegue su questa strada e costituisce una base importante per la crescita futura dell'azienda.
“Proprio recentemente abbiamo completamente rinnovato il nostro portafoglio con la famiglia di prodotti G10. La domanda dei nostri clienti è molto elevata e siamo nel pieno di un ramp-up di volume: ora iniziamo a lavorare sulla prossima generazione di soluzioni tecniche innovative, per continuare a promuovere con successo l'elettrificazione del mondo con i megatrend digitalizzazione, mobilità elettrica ed efficienza energetica. Il nuovo centro di innovazione ci fornisce capacità decisiva”, afferma il dottor Felix Grawert, presidente del consiglio di amministrazione di AIXTRON SE.
Lo spazio di ambiente sterile del centro di innovazione sarà conforme alla classe ISO 6, espandibile fino a ISO 4. Il nuovo complesso, noto nel settore come “Fab”, è uno dei più densi e complessi impianti di semiconduttori al mondo: l’area dispone di due livelli sotterranei – un cosiddetto sub-level, che ospita, tra l’altro, le cabine di filtraggio delle pompe degli impianti, e il livello delle strutture per i processi e i sistemi di supporto dell’intera infrastruttura.
Attraverso questo tipo di utilizzo degli spazi, l’efficienza dell’ambiente sterile aumenta di un fattore fino a tre rispetto alle superfici di ambienti sterili precedentemente utilizzate.
AIXTRON SE
52134 Herzogenrath
Germania








