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El filtro de polarización ha sido desarrollado por Steinmeyer específicamente para la litografía DUV. (Derechos de autor: stock.adobe.com/IM Imagery, número 560372105) A una altura de apenas 15 mm se encuentran tres filtros planos que se desplazan en la trayectoria del haz de la instalación óptica y que pueden posicionarse de forma independiente entre sí. (Derechos de autor: Steinmeyer Gruppe) Solución de posicionamiento ultracompacta y de alta precisión para la exposición de obleas en atmósfera de nitrógeno seca y libre de oxígeno. (Derechos de autor: Imagen: Steinmeyer Gruppe) La combinación de acero inoxidable no oxidante (husillo) y el plástico de alto rendimiento PEEK (tuerca) permite una movilidad óptima, disipación de calor y estabilidad mecánica en nitrógeno ultra seco. (Derechos de autor: Feinmess Suhl GmbH) La transmisión de tornillo de avance tiene un diámetro de husillo de 3 mm y una longitud de husillo de 112 mm, y por ello se encuentra entre las más pequeñas en el mercado en esta precisión. (Derechos de autor: Steinmeyer Gruppe)
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Solución de posicionamiento ultracompacta y de alta precisión para la litografía DUV

Desde el husillo hasta el conjunto de construcción

Cuando se trata de soluciones de posicionamiento altamente especializadas y personalizadas para clientes, Steinmeyer no tiene competencia. Incluso en la industria de semiconductores, la ubicación de Dresde en el "Silicon Saxony" ya es considerada un eldorado para lo que parece imposible, ya que los…

Eric Makiesse Eduardo
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Durante el enjuague se decide si componentes de alta pureza alcanzan los límites de limpieza requeridos, o si una recontaminación tras la limpieza causa rechazo. Son especialmente importantes tres factores:

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