Nowy rok, nowa praca? Sprawdź oferty! Więcej ...
Piepenbrock HJM Buchta PMS



Montaż narzędzia EUV o wysokiej NA w wspólnym laboratorium High-NA firmy imec i ASML w siedzibie głównej ASML w Veldhoven, Holandia. (Źródło obrazu: ASML) / Montaż narzędzia EUV o wysokiej NA w wspólnym laboratorium High-NA firmy imec-ASML w siedzibie głównej ASML w Veldhoven, Holandia. (Źródło: ASML)
  • Konferencja

Postępy w procesach, maskach i technice pomiarowej pozwalają w pełni wykorzystać postęp w rozdzielczości, jaki oferuje pierwszy skaner EUV ASML 0.55NA.

Imec demonstruje gotowość ekosystemu wzorcowania EUV o wysokiej NA

W tym tygodniu imec, wiodące na świecie centrum badań i innowacji w dziedzinie nanoelektroniki i technologii cyfrowych, zaprezentuje na konferencji 2024 Advanced Lithography + Patterning postępy w procesach EUV, maskach i metrologii, opracowanych dla ekstremalnej litografii ultrafioletowej (EUV) z w…

Lepsza informacja: ROCZNIK, NEWSLETTER, NEWSFLASH, NEWSEXTRA oraz KATALOG EKSPERTÓW

Bądź na bieżąco i subskrybuj nasz comiesięczny newsletter e-mail oraz NEWSFLASH i NEWSEXTRA. Dodatkowo dowiedz się z drukowanego ROCZNIKA, co dzieje się w świecie cleanroomów. A z naszego katalogu dowiesz się, kto jest EKSPERTEM w cleanroomie.

ClearClean Systec & Solutions GmbH MT-Messtechnik Pfennig Reinigungstechnik GmbH