Wynik oznacza ważny kamień milowy w AttoLab od imec i KMLabs
Imec prezentuje obrazowanie rezystu linii/przestrzeni o rozstawie 20 nm za pomocą interferencyjnej litografii EUV z wysoką wartością NA
Imec, wiodące na świecie centrum badawczo-innowacyjne w dziedzinie nanoelektroniki i technologii cyfrowych, po raz pierwszy zgłasza użycie źródła generatora wysokich harmonicznych o rozmiarze 13,5 nm do drukowania linii/odstępów z pitch 20 nm za pomocą interferencyjnej lithografii metalowo-oksydowej…
