parts2clean 2023: Czyszczenie wysokiej czystości – Hype czy nowe wymagania

(Zdjęcie źródłowe: VACOM Vakuum Komponenten & Messtechnik GmbH) / (Źródło obrazu: VACOM Vakuum Komponenten & Messtechnik GmbH)

(Zdjęcie źródłowe: VACOM Vakuum Komponenten & Messtechnik GmbH) / (Źródło obrazu: VACOM Vakuum Komponenten & Messtechnik GmbH)

(Zdjęcie źródłowe: VACOM Vakuum Komponenten & Messtechnik GmbH) / (Źródło obrazu: VACOM Vakuum Komponenten & Messtechnik GmbH)

W przypadku wysokiej klasy elementów technicznych wymagania dotyczące czystości stają się coraz bardziej rygorystyczne i wymagające. W związku z tym oprócz terminów czyszczenia drobno- i precyzyjnego w ostatnich latach ugruntował się termin czyszczenia wysokiej czystości (High Purity). Ale co się za tym kryje i czy istnieją różnice? Te pytania będą tematem tegorocznej targów parts2clean z motywem przewodnim „High Purity”. Uzupełnia to klasyczne kluczowe obszary międzynarodowych wiodących targów dla przemysłowego czyszczenia części i powierzchni, które odbędą się w dniach 26-28 września 2023 na terenie Messe Stuttgart (Niemcy).

Znaczny wzrost i dalszy wzrost wymagań dotyczących niezawodności i wydajności elementów i komponentów wpływa również na czyszczenie elementów. Dotyczy to między innymi branż takich jak przemysł dostawczy półprzewodników, produkcja elektroniki, e-mobilność, precyzyjna optyka, przemysł optoelektroniczny, technologia sensorów, fotonika, technologia cienkich warstw, technika próżniowa, laserowa i analityczna, lotnictwo i kosmonautyka oraz technika medyczna i farmaceutyczna. W tych branżach coraz częściej słyszy się termin High Purity. „Pomimo stosunkowo młodej dyskusji na temat tego obszaru zastosowań przemysłowego czyszczenia elementów, targi parts2clean już go odzwierciedlają, oferując różnorodne rozwiązania” – wyjaśnia Christoph Nowak, dyrektor projektu w Deutsche Messe AG. „Ze względu na rosnące znaczenie tego obszaru kompetencji, po raz pierwszy zdecydowaliśmy się uzupełnić klasyczne kluczowe obszary targów parts2clean motywem przewodnim High Purity.”

High Purity, precyzyjne i drobno- czyszczanie

Nie istnieje uniwersalna definicja określająca warunki i wymagania, które muszą spełniać czyszczenie wysokiej czystości, precyzyjne i drobno. Terminy te są więc często używane zamiennie i mają ze sobą wiele wspólnego. Zasadniczo wymaga się bardzo wysokiego poziomu czystości cząsteczkowej, czasami aż do nanometrowego zakresu, oraz ekstremalnie rygorystycznych wymagań dotyczących filmowej kontaminacji resztkowej. Jednakże istnieją również różnice. Tak więc High Purity często jest używane w kontekście przemysłu półprzewodnikowego i jego dostawców, precyzyjnej optyki, przemysłu kosmicznego oraz w innych branżach, w których stosuje się środowiska wysokiego i ultrawysokiego próżni, aby zapewnić specyficzne właściwości procesów i produktów końcowych. Oprócz cząstkowych i filmowo-organicznych oraz nieorganicznych zanieczyszczeń, w tym przypadku należy uwzględnić zarówno materiały używane w elementach, jak i środki operacyjne oraz media czyszczące, czyli tzw. substancje i pierwiastki wywołujące Hydrogen Induced Outgassing (HIO).

Nie tylko zadanie czyszczenia

W zadaniach związanych z czyszczeniem wysokiej czystości, precyzyjnym i drobno chodzi o usunięcie minimalnych ilości zanieczyszczeń, które mogą się różnić w zależności od branży i elementu. Często są to drobne cząstki i filmowe zanieczyszczenia, organika i/lub nieorganika, resztki jonowe lub mikroorganizmy. Tu nacisk kładzie się jeszcze bardziej niż w klasycznym czyszczeniu na cały łańcuch produkcyjny, np. wcześniejsze procesy obróbki muszą wspierać cel czystości, a także odpowiednie obchodzenie się z elementami i warunki otoczenia, na przykład czyste lub sterylne pomieszczenia.

Aby usunąć minimalne zanieczyszczenia, konieczne jest, aby stosowane urządzenia i technologie czyszczenia – procesy chemiczne wodne z rozpuszczalnikami i mediami wodnymi, czyszczenie suche np. strumieniami CO2, systemy plazmowe i próżniowe do suszenia – były odpowiednio zaprojektowane i dostosowane do specyficznych wymagań czystości elementów. Dotyczy to również mediów czyszczących i jakości wody stosowanej w procesach chemicznych wodnych.

Kolejnym aspektem jest czyste obchodzenie się z wyczyszczonymi elementami. Dlatego czyszczenie lub wydanie komponentów odbywa się zgodnie z wymaganiami czystości w czystym lub sterylnym pomieszczeniu.

Temat również w dwujęzycznym forum branżowym

„Jako wiodące targi dla przemysłowego czyszczenia elementów, dążymy do tego, aby nie tylko odzwierciedlały one rynek, ale także promowały fachową wymianę tematów na przyszłość” – podkreśla Christoph Nowak. „Temat High Purity będzie więc pogłębiony na dwujęzycznym forum branżowym.” Program tego wydarzenia, organizowanego wspólnie z działem czyszczenia Fraunhofer i stowarzyszeniem przemysłowego czyszczenia części (FiT), zapewnia, że nie zabraknie informacji na temat klasycznych zagadnień czyszczenia, aktualnych wyzwań i rozwiązań z różnych branż przemysłowych. Wykłady renomowanych prelegentów ze świata nauki, badań i przemysłu będą również tłumaczone symultanicznie (niemiecki <> angielski). „Dzięki temu parts2clean umożliwia krajowym i międzynarodowym odwiedzającym celowany transfer wiedzy na temat trendów, innowacji i benchmarkowych aplikacji we wszystkich obszarach przemysłowego czyszczenia części” – dodaje Christoph Nowak.