Het resultaat markeert een belangrijke mijlpaal voor het AttoLab van imec en KMLabs
Imec presenteert 20 nm Pitch Line/Space Resist Imaging met High-NA EUV Interferentielithografie
Imec, een wereldwijd toonaangevend onderzoeks- en innovatiecentrum voor nano-elektronica en digitale technologieën, meldt voor het eerst het gebruik van een 13,5 nm High Harmonic Generator-bron voor het printen van lijnen/afstanden met een pitch van 20 nm door interferentielithografie van een Inpria…








