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Gracias a la conexión móvil, el Weidmüller IoT Gateway 30 puede usarse en cualquier lugar, independientemente de la infraestructura existente. Weidmüller IoT-Gateway: El todoterreno para todas las aplicaciones IoT / Weidmüller IoT Gateway: el todoterreno para todas las aplicaciones IoT

Puerta de enlace IoT 30 – Módem 4G/LTE para una conexión móvil flexible. – Conexión de datos IoT y acceso remoto. – Conexión versátil mediante interfaces y protocolos seriales (Modbus RTU, TCP, OPC UA, MQTT, RFC1006…). – Acceso remoto integrado u-link

Gateway multifunción Weidmüller

La automatización de instalaciones ha estado en un rápido cambio durante años. Weidmüller ha abordado y promovido constantemente los requisitos resultantes, por ejemplo, con el desarrollo de componentes inteligentes, como el IoT-Gateway 30. El gateway multifunción es la extensión lógica del portafol…

Estructuración de exposición única a 28 nm de paso con el proceso MOx de Inpria en un escáner de campo completo EUV de NA 0,33 después de la metallización de Ru. / Patrocinado de exposición única a 28 nm de paso utilizando el proceso MOx de Inpria en un escáner de campo completo EUV de NA 0,33 después de la metallización de Ru. Paso de línea/espacios de 24 nm, obtenido en un escáner de campo completo NXE:3400B con NA de 0,33, (izquierda) después del desarrollo y (derecha) después del grabado en la dimensión crítica objetivo (CD) (uLER = rugosidad de borde de línea sin sesgo). Agujeros de contacto de 28 nm, obtenidos con un escáner de campo completo NXE:3400 de NA 0,33, después del revelado. / Contact holes of 28 nm obtained on a 0.33NA NXE:3400 full field scanner, after developing.

Correlación demostrada entre datos morfológicos y eléctricos en líneas/espacios de 28 nm, lo que aumenta la comprensión de los efectos de defectos estocásticos en la fiabilidad y el rendimiento de los componentes

Imec lleva la capacidad de patrón de exposición única de 0,33NA EUVL al límite

Esta semana, imec, un centro de investigación e innovación líder mundial en nanoelectrónica y tecnologías digitales, y ASML, el fabricante líder mundial de equipos de litografía de semiconductores, presentarán en la Conferencia SPIE Advanced Lithography 2021 varias ponencias que demuestran la capaci…

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