Ponentes destacados en la 2. Conferencia especializada "Contaminación cinematográfica"

© SV Veranstaltungen

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Imágenes de la 1. conferencia (© SV Veranstaltungen)

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Las visitas a las fábricas se llevarán a cabo este año en Ecoclean en Filderstadt (imagen) y en Quality Analysis en Nürtingen.

Las conferencias de la 2. Conferencia especializada sobre el tema «Contaminación cinematográfica» provienen este año de empresas conocidas como MAHLE, TE Connectivity, WITZENMANN, OLYMPUS, CARL ZEISS, PERO y muchas más. También el Fraunhofer IPA, Fraunhofer IPM, Fraunhofer IVV y la Universidad de Bayreuth presentan ideas sobre proyectos de investigación con empresas de la industria.

La Süddeutscher Verlag Veranstaltungen GmbH ha anunciado la agenda completa de la 2. Conferencia especializada en Contaminación Cinematográfica, que tendrá lugar los días 14 y 15 de noviembre de 2017 en el Hotel Nestor en Ludwigsburg. Con un total de 17 ponencias sobre los efectos de las contaminaciones cinematográficas en la producción, así como visitas a las instalaciones de Dürr EcoClean y Quality Analysis, los asistentes podrán disfrutar de un programa amplio e informativo durante ambos días.

Entre los ponentes se encuentran expertos de diferentes organizaciones, entre ellos el Dr. Markus Rochowicz del Fraunhofer IPA, quien informará sobre el estado actual del consorcio industrial AdhëSa. Andrea Krause, Witzenmann GmbH, abordará el tema: Residuos solubles en el proceso de fabricación y en el producto final. Dominik Falk de HMT – Häseler Metalltechnik, informará sobre análisis de fluorescencia mediante imágenes para detectar contaminaciones cinematográficas, y Volker Seipel, TE Connectivity, presentará el tema de superficies de contacto en áreas de unión por ultrasonido de cables.

Las contaminaciones cinematográficas están presentes en todo el proceso de fabricación

«Estoy muy interesado en la conferencia especializada. El tema de las contaminaciones cinematográficas es tan diverso como los materiales involucrados —todo el sistema periódico está presente—, por lo que los efectos se multiplican dependiendo del material y las condiciones de uso. Las contaminaciones cinematográficas están presentes en todo el proceso de fabricación. Personalmente, eventos como esta conferencia en Ludwigsburg ofrecen una plataforma para el intercambio de experiencias y discusión, además de la oportunidad de adquirir conocimientos específicos que de otra forma no estarían disponibles en esta forma comprimida», dice Andrea Krause, Witzenmann GmbH.

Escáner láser para inspección en línea mediante imágenes

Otros ponentes incluyen a Markus Fabich, Olympus Europa SE & Co.KG, quien hablará sobre cómo identificar contaminaciones cinematográficas mediante microscopía de fluorescencia moderna. El Dr. Albrecht Brandenburg, Fraunhofer IPM, informará sobre escáneres láser para inspección en línea de contaminaciones cinematográficas. El Dr. Axel Müller, OHB Systems, presentará una ponencia sobre requisitos de pureza en la exploración espacial, y el Dr. Andreas Schäfer, nanoAnalytics, discutirá las posibilidades de uso de análisis de laboratorio en el área de contaminación cinematográfica.

Comparación de procesos de limpieza

Michael Onken de SAFECHEM Europe GmbH hablará en la sesión sobre técnicas de limpieza de contaminaciones cinematográficas mediante solventes. El Dr. Martin Hanek, CSC JÄKLECHEMIE, presentará procedimientos de limpieza en húmedo, y Dieter Ortner, PERO AG, comparará diferentes procesos de limpieza en su ponencia. Otras presentaciones correrán a cargo de VACOM GmbH y Unicorn Technologies. La programación será guiada por Oliver Bosch, de Technical Cleanliness de Mahle GmbH.

Intercambio de experiencias

«Para mí, lo más interesante de la conferencia especializada es conocer los desafíos que enfrentan otros participantes respecto a las contaminaciones cinematográficas y otras contaminaciones, y con qué procesos y análisis necesarios abordan estos problemas», dice el Dr. Roland Steiner, Director de Tecnología de Limpieza del Grupo de Negocios de Tecnología de Fabricación de Semiconductores, Carl Zeiss SMT GmbH.

Plataforma para establecer contactos

Además del programa de ponencias y las visitas a las instalaciones, la 2. Conferencia sobre Contaminación Cinematográfica ofrece un espacio para la discusión y el intercambio de experiencias entre usuarios, decisores, científicos y analistas. De este modo, el evento se convierte en una plataforma única para compartir conocimientos con otros expertos de la industria sobre el manejo de la limpieza técnica y las contaminaciones cinematográficas, así como sobre desafíos y perspectivas.

Discutir en igualdad de condiciones

«Estoy muy ilusionado con este evento, porque es único en este sector. En la conferencia, se reúnen tanto OEMs como toda la cadena de suministro. Lo mejor es que todos discuten en igualdad de condiciones, compartiendo conocimientos especializados, aprendiendo sobre nuevas tendencias y compartiendo ejemplos prácticos y soluciones», comenta Dominik Falk, director del área de tecnología de superficies en HTM, sobre el evento.

Exposición especializada

Una exposición acompañante con representantes de HYDAC, CEC, Clear Clean, Treams y OLYMPUS complementa el evento.

Para más información, la agenda completa y un formulario de inscripción, visite www.sv-veranstaltungen.de/fachbereiche/filmische-verunreinigung.