Imec představuje první Design Pathfinding Process Design Kit pro N2 Node

Designová cesta hledání PDK umožňuje digitální návrhy s technologií Gate All Around (GAA) o velikosti 2 nm včetně zpětné konektivity.

Designová cesta hledání PDK umožňuje digitální návrhy s technologií Gate All Around (GAA) o velikosti 2 nm včetně zpětného připojení.

Imec, celosvětově přední výzkumné a inovační centrum pro nanoelektroniku a digitální technologie, představuje na IEEE International Solid-State Circuits Conference (ISSCC) 2024 svůj Open Process Design Kit (PDK) s doprovodným školícím programem, který je nabízen prostřednictvím EUROPRACTICE. PDK umožní virtuální digitální návrhy v technologii N2 od imec, včetně Backside Power Delivery Network. PDK bude integrován do sad EDA nástrojů, například od Cadence Design Systems a Synopsys, a tím poskytne široký přístup k pokročilým uzlům pro návrh, systémový výzkum a školení. Tím získají vysoké školy a průmysl nástroje k výchově budoucích odborníků na polovodiče a umožní průmyslu transformovat své produkty pomocí smysluplných návrhových cest v technologiích příští generace.

Foundry PDK poskytují návrhářům čipů přístup k knihovně testovaných a osvědčených komponent, které umožňují vytvářet funkční a spolehlivé návrhy. Ty jsou obvykle dostupné pro ekosystém, jakmile technologie dosáhne určité výrobní vyspělosti. Omezený přístup a nutnost NDA však vedly k tomu, že přístup k pokročilým technologickým uzlům během jejich vývoje představuje pro vědu a průmysl vysokou bariéru. Přístup ke imec N2 PDK pomůže jak akademickému světu, tak komerčním firmám: „Pokud chceme získat novou generaci návrhářů čipů, musíme jim včas zpřístupnit infrastrukturu, kterou potřebují k rozvoji svých návrhových schopností na nejpokročilejších technologických uzlech. Doprovodné školící kurzy tyto návrháře co nejrychleji uvedou do nejnovějších technologií a seznámí je s nejnovějšími technologickými změnami, jako jsou nanostruktury a technologie zadní strany waferu. Design Pathfinding PDK také pomůže firmám přenést jejich návrhy na budoucí technologické uzly a předejít škrtům v škálování jejich produktů,“ vysvětluje Julien Ryckaert, viceprezident pro Logic Technologies.

Design Pathfinding PDK obsahuje nezbytnou infrastrukturu pro digitální návrh založenou na sadách digitálních standardních buněk a SRAM IP makrech. V budoucnu bude platforma Design Pathfinding PDK rozšířena na další pokročilé uzly (například A14). Školící program začne na začátku 2. čtvrtletí a účastníkům představí zvláštnosti technologického uzlu N2 a nabídne praktické cvičení na digitálních návrhových platformách s využitím EDA softwaru od Cadence a Synopsys.

„Podpora inženýrů vybavených potřebnou technologií pro vývoj průlomových produktů je klíčová pro polovodičový průmysl,“ říká Brandon Wang, viceprezident pro technickou strategii a strategická partnerství ve společnosti Synopsys. „Design Pathfinding PDK od Imec je skvělým příkladem toho, jak průmyslová partnerství mohou rozšířit přístup k pokročilé procesní technologii pro současné i budoucí generace vývojářů, aby urychlily jejich inovace v oblasti polovodičů. Naše spolupráce s imec při poskytování certifikovaného, AI řízeného digitálního EDA návrhového toku pro jeho N2 PDK umožňuje návrhářským týmům vytvářet prototypy a urychlit přechod na technologie příští generace pomocí virtuálního prostředí založeného na PDK.“

„Cadence usiluje o spolupráci s univerzitami a výzkumnými institucemi na podpoře inovací a rozvoji pracovních sil v oblasti nano- a mikroelektroniky,“ komentuje Yoon Kim, viceprezident pro akademickou síť Cadence. „Cadence a imec mají dlouhou historii úspěšné spolupráce na různých projektech a nový PDK od imec pro návrhovou cestu je důležitým novým milníkem ve vzdělávání příští generace vývojářů silikonových čipů. Imec využilo všechny nástroje průmyslově vedoucích AI řízených digitálních a vlastních/analogových full flow od Cadence k vytvoření a validaci Design Pathfinding PDK. To zajišťuje, že akademičtí i průmysloví partneři mají přístup k úplnému Cadence toku na nejpokročilejších uzlech, což jim umožní plynulý přechod na návrhy příští generace.