Reinraum-Technikum für Reinigungsversuche im hochreinen Bereich

Ausgestattet ist das Reinraum-Technikum mit speziell für High Purity-Anwendungen ausgelegten Reinigungssystemen sowie verschiedenen Nachweistechnologien zur Kontrolle der erzielten partikulären und filmischen Sauberkeit. (Bildquelle: acp systems AG) / The cleanroom test center is equipped with cleaning systems specially designed for high-purity applications as well as various inspection technologies for verifying the achieved particulate and filmic cleanliness. (Image credit: acp systems AG)

Für die Durchführung von High Purity-Reinigungsversuchen unter hochreinen Bedingungen hat acp die Testkapazitäten um ein Reinraum-Technikum erweitert. Basis ist ein validierter Reinraum der Klasse ISO 7 mit Zonen bis Klasse 5 nach ISO 14644-1. (Bildquelle: acp systems AG) / To carry out high-purity cleaning tests under ultra-clean conditions, acp has extended its test capacities by a cleanroom test center. The basis is a validated ISO Class 7 cleanroom with zones up to Class 5 according to ISO 14644-1. (Image credit: acp systems AG)

Die Medienaufbereitung stellt eine Reinheit des recycelten Kohlendioxids von 99,995 Prozent und die Druckluftqualität 1.2.1. entsprechend ISO 8573-1:2010 sicher. Um die beispielsweise in der Halbleiter-Produktion geforderte Luftqualität zu erzeugen, ist in die Druckluft-Reinstmedienversorgung (XCDA) zusätzlich ein Gaswäscher integriert. (Bildquelle: acp systems AG) / The media preparation systems ensure that the recycled carbon dioxide has a purity of 99.995 percent and compressed air a quality of 1.2.1. according to ISO 8573-1:2010. To produce the air quality needed by semiconductor manufacturers, for example, a gas scrubber is also integrated into the high-purity media supply system for compressed air (XCDA). (Image credit: acp systems AG)

Abgestimmt auf extrem hohe partikuläre und filmische Reinheitsanforderungen, die bei Hightech-Bauteilen in immer mehr Branchen zu erfüllen sind, hat die acp systems AG die Testkapazitäten erweitert. Konstruktion und Ausstattung des neuen Reinraum-Technikums ermöglichen die Durchführung von Reinigungsversuchen bis Reinheitsklasse ISO 5 mit der trockenen quattroClean-Schneestrahltechnologie sowie den Nachweis der erzielten Sauberkeit.

Ob metallische, optische oder Kunststoff-Komponenten, der Bedarf an hochreinen Bauteilen nimmt quer durch alle Branchen kontinuierlich zu. Dabei sind partikuläre Sauberkeitsanforderungen bis in den Submikrometer-Bereich und extrem hohe Reinheiten hinsichtlich filmisch-organischer und anorganischer Restkontaminationen zu erfüllen. Auf diese Veränderungen hat die acp systems AG mit reinraumgerecht ausgelegten Lösungen ihrer quattroClean-Schneestrahltechnologie reagiert. Es handelt sich dabei um ein trockenes Verfahren für die ganzflächige oder partielle Bauteilreinigung. Reinigungsmedium ist klimaneutrales, flüssiges Kohlendioxid, das durch eine verschleißfreie Zweistoff-Ringdüse geleitet zu feinen Schneepartikeln entspannt und gebündelt durch einen Druckluftstrahl auf der zu reinigende Oberfläche durch vier Wirkmechanismen partikuläre und filmische Kontaminationen entfernt. quattroClean-Reinigungssysteme sind unter anderem bei Herstellern aus der Sensor- und Mikrosystemtechnik, Elektronik, Halbleiterzulieferindustrie, Präzisionsoptik, Luft- und Raumfahrt, Medizin- und Pharmatechnik, Kommunikationstechnologie sowie Automobilindustrie in Reinräumen unterschiedlicher ISO-Klassen im Einsatz. Um Kunden aus diesen Industriebereichen die Durchführung von Reinigungsversuchen unter hochreinen Bedingungen zu ermöglichen, ist das Unternehmen zu seinem 25-jährigen Jubiläum den nächsten Schritt gegangen: Am Standort Ditzingen entstand ein Reinraum-Technikum, das Mitte Juni 2023 fertiggestellt wurde.

Konstruktion und Ausstattung für Versuche bis Reinheitsklasse ISO 5

Basis des neuen Technikums ist ein validierter Reinraum der Klasse ISO 7 mit Zonen bis Klasse 5 nach ISO 14644-1. Den hohen Anforderungen der Reinraumklasse 5 entspricht auch die Konstruktion und Ausstattung der beiden integrierten Reinigungssysteme JetStation-HP. Die Medienaufbereitung für das flüssige Kohlendioxid stellt eine Reinheit des Prozessmediums von 99,995 Prozent sicher. Die Druckluftaufbereitung gewährleistet die Qualität 1.2.1. entsprechend ISO 8573-1:2010. Integriert in diese Reinstmedienversorgung für die Druckluft (XCDA) ist darüber hinaus ein Gaswäscher, der Spuren organischer Stoffe herausfiltert, so dass die beispielsweise in der Halbleiter-Produktion geforderte Luftqualität erzeugt wird.

Das neue Reinraum-Technik eröffnet damit die Möglichkeit, Reinigungsversuche und Machbarkeitsstudien bei einem sehr breiten Spektrum von Bauteilen mit extrem hohen Reinheitsanforderungen durchzuführen, beispielsweise Grade 1. Dies schließt Komponenten ein, die aufgrund ihrer Dimensionen oder durch einen bereits vormontierten Zustand nicht nasschemisch gereinigt werden können beziehungsweise bei denen mit bisher eingesetzten Verfahren die erforderliche Reinheit nicht reproduzierbar erreicht wird. Für die Kontrolle der erzielten Sauberkeit stehen verschiedene Nachweistechnologien zur Verfügung. Ein eventuell erforderlicher Transport der gereinigten Komponenten erfolgt in reinraumgerechter Verpackung.

Sauberraum-Versuchslabor für Sauberkeitsanforderungen bis 100 Mikrometer

Das neue Reinraum-Technikum ergänzt das seit Jahren bestehende, in einen Sauberraum integrierte Versuchslabor. Es wird üblicherweise für Reinigungsaufgaben aus verschiedenen Branchen genutzt, bei denen ganzflächig oder partiell eine technische partikuläre Sauberkeit bis 100 Mikrometer gefordert wird. Das Sauberraum-Versuchslabor eignet sich daher auch, um Komponenten für die Reinigung im Reinraum vorzubereiten.