Pulizia del CO2 mediante pompe a membrana
Liquido, eccessivamente critico, in forma di gas: pulizia di wafer di silicio con anidride carbonica supercritica
La pulizia gioca un ruolo essenziale nella produzione di wafer di silicio, per garantire una conduttività e una funzionalità corrette dei circuiti integrati (IC) prodotti da essi. In questo processo, la rugosità superficiale dei wafer deve essere ridotta a pochi nanometri in più fasi di lavorazione…








