CO2-Reinigung mittels Membranpumpen
Flüssig, überkritisch, gasförmig: Reinigung von Silizium-Wafern mit überkritischem Kohlenstoffdioxid
Sauberkeit spielt bei der Produktion von Silizium-Wafern eine essentielle Rolle, um eine ordnungsgemäße Leitfähigkeit und Funktion der daraus produzierten integrierten Schaltkreise (ICs) zu gewährleisten. Dabei muss die Oberflächenrauheit der Wafer in mehreren Arbeitsschritten auf wenige Nanometer r…








