Nový rok, nová práce? Podívejte se na nabídky! více ...
C-Tec PMS MT-Messtechnik Piepenbrock



Také údaje o průtokových a tlakových regulátorech v výrobní místnosti zákazníka byly přeneseny do virtuálního modelu. Porovnání měřených dat s simulací. Dipl.-Ing. (FH) Michael Kuhn, vedoucí Steinbeisova transferního centra pro energetiku, životní prostředí a čisté prostory, lektor pro čisté prostory a předseda VDI 2083-19.
  • Budovy a místnosti

STZ EURO nabízí rychlé a realistické simulace pro plánování, výstavbu, uvedení do provozu a optimalizaci čistých prostor.

Novinka: Optimalizace tisku čistých prostorů při provozu

Digitální věk dobývá náš každodenní život. Plánování, výstavba, optimalizace a kvalifikace čistých prostor vyžadují důkladné inženýrské znalosti. Tyto složité souvislosti lze nyní pomocí STZ EURO také modelovat pomocí simulačních výpočtů. To slibuje rychlejší, nákladově optimalizované a přesné fáze…

Elektronické součástky, například integrované obvody (IC), jsou vyráběny z křemíkových waferů. Považují se za základní součásti všech elektronických zařízení, včetně notebooků, tabletů, chytrých telefonů, kamer a LCD televizorů. (Zdroj: LEWA GmbH) / Electronic components such as integrated circuits (ICs) are produced from silicon wafers. They are the basic components of all electronic devices, including laptops, tablets, smartphones, cameras, and LCD televisions. (Source: LEWA GmbH) Při zahřátí na více než 35°C dosáhne CO₂ svého nadkritického stavu, což je fyzikálně považováno za směs plynného a kapalného skupenství. V tomto stavu má vynikající rozpouštěcí vlastnosti vůči určitým nepolárním nečistotám, jako jsou pryskyřice a částice. (Zdroj: LEWA GmbH) / By heating to at least 35°C the CO₂ has reached its supercritical state, means SCCO₂ – between that of gas and liquid. In this state, it has excellent solvent properties against certain non-polar impurities such as resin and particles. (Source: LEWA GmbH) Membránová čerpadlo je instalováno v takzvané „skříni na čištění waferů“. V této skříni je kapalné CO₂ pomocí membránového čerpadla stlačeno v procesní komoře na minimálně 75 barů, aby bylo dosaženo odpovídajících čisticích vlastností. (Zdroj: LEWA GmbH) / The diaphragm pump is installed in a wafer cleaning cabinet where it compresses the liquid CO₂ to at least 75 bar in order to attain the appropriate cleaning properties. (Source: LEWA GmbH)

Čištění CO₂ pomocí membránových čerpadel

Tekutý, přehnaně kritický, plynný: čištění křemíkových waferů pomocí superkritického oxidu uhličitého

Čistota hraje při výrobě křemíkových waferů zásadní roli, aby byla zajištěna řádná vodivost a funkce integrovaných obvodů (IC), které z nich vznikají. Přitom musí být povrchová drsnost waferů několika výrobními kroky snížena na několik nanometrů a wafery během zpracování vyčištěny. Pokročilá čisticí…

Obrázek: Chytrý polohový regulátor a integrovaný procesní regulátor GEMÜ 1436 cPos. / Intelligent positioner and integrated process controller GEMÜ 1436 cPos.

GEMÜ rozšiřuje osvědčený polohový regulátor GEMÜ 1436 cPos o další možnosti v prostředí sběrnicových systémů.

Ověřený a všestranný – GEMÜ 1436 cPos s novým rozhraním pro průmyslovou sběrnici Profinet

S novým rozhraním Profinet pro průmyslovou sběrnici dosahuje polohový regulátor GEMÜ 1436 cPos přenosové rychlosti až 8krát vyšší. Zůstává však zachována možnost pohodlně nastavovat všechny parametry prostřednictvím rozhraní průmyslové sběrnice, namísto jejich zadávání lokálně na ovládacím panelu. T…

Lépe informováni: S ROČENKOU, NEWSLETTEREM, NEWSFLASH, NEWSEXTRA a ADRESÁŘEM ODBORNÍKŮ

Buďte aktuální a přihlaste se k odběru našeho měsíčního e-mailového NEWSLETTERU a NEWSFLASH a NEWSEXTRA. Získejte další informace o dění ve světě čistých prostorů s naší tištěnou ROČENKOU. A zjistěte, kdo jsou odborníci na čisté prostory, v našem adresáři.

Becker Hydroflex Pfennig Reinigungstechnik GmbH Vaisala