Zařízení pro sledování procesu v novém designu

Zařízení pro sledování procesu v novém designu

Procesní monitorovací zařízení PUC 28 od halstrup-walcher doplňuje řadu procesních monitorovacích zařízení. S hladkým plastovým povrchem je speciálně navrženo pro použití v čistých prostorách.

V čistých prostorách je zvýšený tlak vzduchu jednou z hlavních veličin, které je třeba sledovat. Dále hraje důležitou roli vlhkost a teplota. Aby bylo možné zobrazit všechny klimatické podmínky na jednom zařízení, vybavil halstrup-walcher své procesní monitorovací zařízení PUC 28 pro měření tlaku s přídavnými vstupy pro připojení externích teplotních a vlhkostních senzorů. Ty jsou nastavitelné na 0–10 V nebo 0/4–20 mA. Tak lze všechny měřené hodnoty přehledně číst na společném grafickém LC displeji. Komunikace s nadřazeným řídicím systémem může probíhat přes Profibus.

Pro měření diferenčního tlaku jsou zařízení vybavena induktivní měřicí technologií, která nabízí velmi jemné rozlišení 0,1 Pa při opakovatelnosti měření 0,1 %. Cyklická automatická kalibrace nulové hodnoty zajišťuje stabilitu měřených hodnot. Vestavěný ventil zajišťuje vysokou odolnost vůči přetížení. Měřicí rozsah ± 250 Pa nebo ± 100 Pa je volně škálovatelný a dodatečné kontaktní výstupy umožňují připojení externích alarmů.

S PUC28 je nyní k dispozici také cenově dostupná varianta s hladkým povrchem. Odolný plastový povrch, odolný vůči běžným čisticím prostředkům, předurčuje PUC 28 pro instalaci v čistých prostorách. Umožňuje přední montáž, přičemž dokonce i fóliová klávesnice tvoří rovnou plochu na přední straně krytu. V volitelné verzi je možné se vyhnout vyjímání zařízení z čisté místnosti pro kalibraci. K tomu slouží dva tlakové připojky na přední straně zařízení.